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上海微电子已经成功生产光刻机了么？这个领域国内是什么水平？
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发布时间：2020-12-06加入收藏来源：互联网点击：
说明上海微电子生产的光刻机分辨率和套刻精度得到跃升，既可满足生产中高端芯片制程需要，也逐渐缩小了与荷兰ASML在DUV光刻机上的差距。
现今世界科技领域逆全球化思潮抬头，让人们充分意识到关键产业自主可控的重要性。上海微电子生产光刻机从90nm进步到28nm、不是简单的数字缩小，它完美地避开了美国的技术、拥有了自主可控制造高端芯片的设备。
既可满足我国绝大部分制程高端芯片的需要，还可通过相模位移、重复曝光、多次蚀刻等技术手段达到7nm芯片制程工艺水平，标志着国产光刻机制造能力的跃升，意义重大。
二、国内离世界最先进的EUV光刻机还有不小差距。
荷兰ASML生产的EUV光刻机，因采用美国的13.5nm极紫外光源、德国蔡司的透镜等许多先进技术和工艺，能制程7nm及以下工艺节点的芯片。而DUV光刻机28nm制程工艺是一个长期的分水岭，即使穷尽技术手段也只能在7nm工艺节点嘎然而止。
世界上能生产光刻机的企业不多，荷兰的ASML、韩国的三星、日本的佳能和尼康，而能生产顶尖极紫外光源EUV光刻机就只有荷兰ASML一家。事实足以证明：上海微电子光刻机制造已跻身世界一流水平。
在制造高端光刻机需使用的光源上，13.5nm极紫外光源与193nm深紫外光源有着技术上的代差，上海微电子必须再接再厉，突破极紫外光源、精密机械加工透镜和零部件、精准曝光和光刻计量等瓶颈，才能更上一层楼。
但这不可能一蹴而就，需逐一攻关解决。而我国在晶圆制备、光刻胶、双工台等方面都已完成突破，具备从DUV向EUV转换的条件。
中芯国际的执行CEO梁孟松博士说过：“有了EUV光刻机，我们就能生产7nm、甚至5nm的高端芯片”。
日前，上海电气(集团)官宣：将推动属下三家企业(上海碾磨特装设备、上海电器陶瓷、上海电气自动化设计研究所)进行混合所有制改革，并承担光刻机的攻关任务。
2021年1月8日，上海电气在上交所主板巨量封涨停，是否“春江水暖”，静待花开或许是有可能的。
回答于 2019-09-11 08:43:50
感谢邀请
上海微电子已经成功生产光刻机了么？这个领域国内是什么水平？
题主问题的核心是上海微电子已经成功生产光刻机了吗的？这个领域在国内是什么水平？首先上海微电子可以生产光刻机确实已经不是什么惊天秘密了，因为他早在2002年就有成立了，很多人也许没有听说过，原因实际就在于工艺方面相对落后，所以不被人们所熟知，因为确实相对于现在手机处理器方面的工艺来说，他目前最高可以生产90nm的技术，确实有些不够看，但是在国内确实是顶尖的存在。
国内做光刻机的厂商之前确实有很多，但是大多数还是在130nm甚至280nm左右，而要说发展比较不错，工艺响度较高的就是上海微电子了。而从全球市场来看，中国光刻机工艺不算是落后，也不算是太强。
一方面是因为，确实做光刻机的国家确实不多。之前的市场，荷兰的ASML，以及日本的佳能，尼康等等。ASML的成功源自于他吸收了各个行业的精英，要想使用就要入股，同时他使用的技术，比如计量设备和光源来自美国、镜头和精密仪器来自德国、轴承来自瑞典等等，他们都是行业的翘楚，之所以如此，他才发展到现在的强大。
而日本尼康和佳能，确实也算是佼佼者，因为日本本身做精密电子技术确实很强，再加上光刻机所需要的镜片，以及光源等等，确实对于做相机出身的佳能和尼康来说，并不算是难事，但是现在佳能和尼康已经退出了光刻机市场，原因就在于没有了市场，高不成低不就，虽然不错，但是相比ASML确实有很大差距，所以销量很低，本身光刻机确实每年生产数量有限，再加上设备价格相对比价高，如果没有订单，或者是订单较少，确实就意味着只能淘汰出局。所以说起来现在，做光刻机的国家确实屈指可数。
二方面，也是因为我们刚才说的，现在光刻机市场确实基本上被ASML垄断了，所以竞争者很少。另外一个方面根据最新的报道称，上海微电子28nm工艺即将到来，虽然没有权威的出处，但是对于我们来说也算是增加了信心，毕竟这是一个大的跨越，因为光刻机的研发实际是分为阶段性的，理论上90nm接下来应该是60nm、45nm、40nm，接下来才是28nm，而这次上海微电子直接从90nm到28nm，确实可见其实力。如果28nm研发成功量产的话，确实我们光刻机技术在世界上就算是站稳了脚跟。
光刻机工艺方面确实难度比较大，比如零件甚至达到了10万个左右，同时需要系统协同工作，但是最重要的几个方面，我们已经慢慢在解决，比如这次28nm工艺的背后实际就是我们的企业，有北京科益虹的光源系统、国望光学的镜头、华卓精科的浸入式双工作台、浙江启尔机电的浸液系统等等。
我们现在顶级的差距还是比较大的。现在ASML最高可以生产5nm工艺，而且产品方面，比如苹果12上面的A14处理器，以及华为麒麟处理器9000系列都是5nm工艺，而我上海微电子即便是28nm开始量产，之后还是有很长的路要走，比如16nm/14nm，10nm，以及7nm，以及包括EUV极紫外刻技术目前来说确实也很难去解决。
总结和观点：
首先我国可以声场光刻机已经是很早之前的事情了，只是因为工艺方面的差距，所以并不能用在，我们日常使用的电子产品中。另外一个方面在于本身光刻机技术方面确实要求极高，同时因为《瓦森纳协定》中规定高端设备或尖端技术对我国进行出口管控或技术封锁，导致我们只能进行自研发，所以和ASML相差有点大，
回答完毕
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回答于 2019-09-11 08:43:50
谢谢邀请，上海微电子生产出国产第一台光刻机已经是十几年前的事了，只是因为美国限制我们国家的大规模集成电路（高端芯片）的发展和荷兰ASML的最先进光刻机对我们不开放及华为的成长受阻等各种因素发酵，把我们国家先进光刻机的问题推上了风口浪尖。
其实不仅是先进的光刻机（极紫外），我们国家因为工业化比较晚，所有现代工业技术基本都落后西方（美国德国法国英国日本），光刻机只是典型代表。
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