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为什么唱衰中国光刻机制造，十年都造不出来的评论少了？
光刻,中国,技术为什么唱衰中国光刻机制造，十年都造不出来的评论少了？
发布时间：2020-12-06加入收藏来源：互联网点击：
光刻机分段实破，世界是一个世界，中国也是一个世界，首先是曾与光刻机打过交道，华为公司人村，华人人材，世界挖光刻机高端人材，北京，上海，深圳，等十几个地方，各负责一个分段，拆整为零，用各地最顶端人材攻克光刻机一个部然后由华为公司和全国各地最尖端人材协调全国攻关，而不是靠一家公司攻关，然后再总装而成，一个堂堂上海只攻下光刻机一个部位，这样中国也变成了一个世界，从无到有，从有到精，精上加精，天上既然掉不下来，就一步一步起下去，我们中国走过许许多多难关，只要持之以恒，就会一步一步迈向目标。
回答于 2019-09-11 08:43:50
做任何事情不能盲目自大，但也不能妄自菲薄。
一直以来我相信绝大多数人都没有唱衰中国光刻机制造，只是大多数人觉得我国光刻机跟世界顶尖水平有很大的差距而已，毕竟这是一个事实。
实际上一直以来我国都有自己的光刻机，我国光刻机研究始于上世纪60年代，直到80年代初的时候，我国光刻机仍然处于世界比较先进的水平，当时跟美国最顶尖的光刻机水平只差几年时间。
只是后来改革开放之后，我国可以直接进口外国的一些光刻机，而且进口的这些光刻机技术更先进，成本又更低，所以没有企业愿意投入更多的资金去研发国内的光刻机。
结果导致我国光刻机的技术跟日本，美国以及荷兰的技术差距越来越大，特别是荷兰ASML成功研发出EUV光刻机之后，我国跟他们的差距更是越拉越大。
直到本世纪初，我国又重新开始重视起光刻机的研究起来，所以目前我国光刻机是可以独立自主生产的，只是我们生产出来的光刻机精度没有那么大。
目前我国真正实现量产的最高制程光刻机是90纳米，虽然28纳米光刻机已经研发成功，但预计要等到2021年底才能够正式量产。
而目前全球最顶尖的光刻机制造商ASML已经拥有成熟的7纳米EUV光刻机，同时他们也正在研发5纳米以及3纳米的光刻机。
所以目前我国的光刻机技术跟全球最顶尖的水平至少差三代以上。
不过最近几年我国在光刻机研究方面已经取得了不少积极的成果，比如清华大学研究出了光刻机双工作台，这使得我国成为全球第二个具备开发双工作台光刻机的国家。
再比如2018年11月，由中国科学院光电技术研究所所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，该装备采用365nm波长的紫外光单次成像，实现了22纳米的分辨率，结合双重曝光技术后，未来还有可能用于制造10nm级别的芯片，这为我国芯片加工提供了全新的解决途径。
2019年4月，武汉光电国家技术研究中心甘棕松团队采用二束激光在自主研发的光刻胶上突破了光束衍射极限，采用远场光学的办法，成功刻出9nm线宽的线段，实现了从超分辨成像到超衍射极限光刻制造的重大创新，这个技术突破让我国打破了三维纳米制造的国外技术垄断，在这个全新的技术领域内，我国从材料、软件到光机电零部件都不再受制于人。
再比如前段时间中科院苏州纳米所在5纳米激光光刻技术上也取得了新的突破。
这些成就的取得都表明目前我国在光刻机技术研究方面正在不断突破，跟国际顶尖的水平正在逐步缩小。
虽然目前我国光刻机跟全球顶尖水平仍然有很大的差距，但我相信在我国科研人员的努力之下，终有一天我们会实现光刻机技术的全新突破的。
正如以前西方国家也曾经对我国进行大量的技术封锁，比如导弹、卫星，航母等方面，西方国家都对我国进行技术封锁，但在西方对我国采取封锁的350项技术当中，目前绝大部分技术已经被我国突破，而且这些突破都是我国完全独立自主研发出来的。
所以我们要相信我国的科研人员，过去几十年我国经济快速发展，大多数人更关注的是产能而忽略了核心技术。但最近几年随着我国产业结构的调整升级，技术研发已经越来越受到全社会的关注，当全社会集中精力去做一件事情的时候，我相信再难的事情，我们迟早都会取得突破的。
回答于 2019-09-11 08:43:50
顶尖技术装备实打实放在那里等着后来者追赶超越，这是工业制造不断进步的基本规律，与唱不唱衰毫毛关系都没有。世界工商业发展总是要成就几个皇冠上的明珠，而这个明珠的先决条件就是，你不论采用什么逆向工程都无解，必须要靠自己完备设计加工能力，不断积累经验，才可能摘掉那颗明珠，将自己百炼的新明珠镶上。
如果芯片是半导体产业的皇冠，EUV光刻机无疑就是这顶皇冠上的明珠。阿斯麦人说把图纸给你，你也生产不出来。这个意思是说生产光刻机的难度不在于其本身，而是要有加工出各种元器件的能力，就像生产大飞机一样，我们有了设计的自主知识产权，但自己生产配件的能力有限。
根据摩尔定律十年以后都零点零几纳米了，EUV光刻机存不存在都不一定，所以还是让有心人只争朝夕的去实干吧，唱衰与热捧都无济于事。
回答于 2019-09-11 08:43:50
前几天的新闻说中国光刻机技术突破5nm。虽然离世界顶级的技术还差不少。但是这是实打实的进步。
中国自建国以来，所有的高科技技术都被外国封锁的死死的。而光刻机技术就是其中一种。并且光刻机技术要求非常高，对于基础工业技术等多方面的要求都非常高。这些都不是一时半会儿能赶上来的。
所以在以前很多人对于这样的高精尖技术都保持唱衰的心态。因为差距实在是太大了。
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