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为什么唱衰中国光刻机制造，十年都造不出来的评论少了？
光刻,中国,技术为什么唱衰中国光刻机制造，十年都造不出来的评论少了？
发布时间：2020-12-06加入收藏来源：互联网点击：
一点解答：国产光刻机目前水平90nm，国产中微半导体的蚀刻机水平5nm，不要把光刻机和蚀刻机搞混。有一部分朋友问中芯国际不是能够量产14nm工艺芯片了？其实目前中芯国际用的还是ASML光刻机，只不过中芯国际没有拿到顶尖的EUV光刻机。
笔者谈国产光刻机
其实对于光刻机这东西，我们很需要提高的就是基础材料工艺。相关的很多东西并不是技术达不到，而是部件工艺达不到，工艺不够顶尖自然做出来机器也是不强。
就像这个光刻机镜头，一直都是德国蔡司公司最强。我们国产镜头根本比不上蔡司，达不到人家那个工艺水准，这些部件的工艺跟不上，也就难以做高精度光刻机。
一方面是基础材料科学，另外还是要重视科研投入、重视人才培养、重视技术积累，另外一方面也是需要各大公司进行合作，这东西单靠一家是万万不行的。
以上仅是笔者个人见解，如有不同的看法欢迎您的讨论探讨，非常感谢您的阅读！
回答于 2019-09-11 08:43:50
我不同意标题观点，非要说中国能造光刻机才是爱国吗？说十年造不出就是唱衰吗？难道不可以说真话吗。我的观点是二十年内我国造不出象荷兰那种最先进的EVA光刻机，那是当今世界最高科技的集成，即使美国凭一国之力也不可能完成，我们基础本来就差，造不出来并不丢人，我们用持之以恒的决心和毅力，我们不计时间和成本，一代代人接捧，我相信总有一天会取得成功的，我们为何非要给自己设定一个时间去自我束缚呢？
回答于 2019-09-11 08:43:50
唱衰光刻机2O年做不出来，是刺激下做应用的科学麻木了的神经，应该没有恶意，我是这样理解的，并非墙倒众人推。并且光刻机难做是因为没有市场，这次美国用光刻机卡脖子，明显市场让出来了，中国不论是谁，做出来就赚了，毕竟是个技术密集型的货，一台12亿，技术也不是外星人做的，国家再也不会伸头去给别人卡脖子，而不要国产货，国内有识之士必定会联合攻关，象航空发动机一样闯出国产的一片天下！
回答于 2019-09-11 08:43:50
我认为，中国光刻机不用多久，就可以满足我们的，也不用看人家脸色行事，该干的就干。撸起袖子加油干！胜利一定属于我们中国人的。
回答于 2019-09-11 08:43:50
为什么唱衰中国光刻机制造，十年都造不出来的评论少了？没有经历被打压时害怕，可真到来时却并非那么心惊胆战。光刻机也是一样的，越是被人打压我们越是反弹，经过一段时间后认清了状况，也就没有那么玄乎了。
光刻机我们并不缺，比如绝大部分民用、军用领域就靠我们现在国产的光刻机就能够满足。缺少的是极少部分民用领域的中高端芯片需要用到的高端光刻机，比如像ASML那样的EUV光刻机，加工7nm、5nm等那样低nm级的芯片。这些低nm芯片集中用在诸如手机中，比如高通骁龙5nm芯片、麒麟5nm芯片、联发科5nm芯片等等。
这些低nm级芯片国产集中又体现在华为公司，也就是其5G芯片、麒麟芯片等，在美国的打压下不能被拥有EUV光刻机的台积电生产代工。有可能一连串影响到通信、手机等消费设备，影响到国内科技扛把子华为企业一夜之间被搞垮杆儿。但华为并非会坐以待毙呢，并不会。除了和合作伙伴台积电生产了不少备用芯片之外，也已经在介入到芯片制造厂家中，意图取得芯片生产的突破。
那么除了ASML光刻机之外，国产芯片制造真就没办法可想了吗？笔者倒并不如此认为。国产光刻机是比ASML、尼康佳能的光刻机要差，但总还是有，虽然只有90nm级别。但不可能就此原地踏步，最新的消息就显示国产光刻机厂商SMEE就将要突破28nm级，这将会为我们芯片制造诸如一剂强心剂。
况且除了SMEE之外，国内意识到了光刻机对芯片制造的影响，各大科研机构已经在攻克相关瓶颈。比如中科院苏州纳米所避开了ASML的EUV领先步伐，另辟道路双激光交叠技术，通过精确控制能量密度及步长，同样可以实现5nm的特征线宽。虽然还处在实验室阶段，但假以时日应用在光刻机上是可能的。
“ASML即使把图纸交给中国，也造不出光刻机来。”，这只不过是ASML的傲慢与吓唬而已，只要我们想做，集中力量办大事可不是吹出来的，这三十多年已经证明了。芯片制造既然成了瓶颈，国内已经在逐步展开产业链的深化，打通这个瓶颈。也许5年8年，即使用10年时间打通，为后世开太平不再被打压卡脖子也算值得。
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回答于 2019-09-11 08:43:50
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