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国产光刻机能实现多少nm工艺制程？
光刻,华为,芯片国产光刻机能实现多少nm工艺制程？
发布时间：2016-12-08加入收藏来源：互联网点击：
为此，我们研发机构也正在努力研制EUV光刻机，这类光刻机最核心的EUV曝光目前正由长春光机抓紧研发中。
Lscssh科技官观点：
随着国内半导体产业近期不断受到打压，光刻机的重要性愈发的凸显出，这个芯片生产最重要的设备，如果我们有自己的先进设备，整个产业链受到美国的干扰就会小很多。
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回答于 2019-09-11 08:43:50
国产光刻机能实现多少nm工艺制程？国外ASML的EUV光刻机可以达到7nm制程，而国内最好的SMEE公司的光刻机智只能达到90nm，差距相当明显。正是因为国产光刻机目前距离国际先进光刻机的水平较大，才造成了目前华为芯片制造的艰难。
国内光刻机差距最先进的ASML高端EUV光刻机大约是10-20年光景。本来国内早期非常重视光刻机，但后来自研不如买的思路发展导致了我们的落后，再加上西方国家泡制的《瓦森纳协议》让我们无法购买到最先进的设备和零部件，所以现在国内高端芯片都只有委托别人加工。一旦有任何风吹草动，心里就担惊受怕。
目前国外最先进的ASML的EUV光刻可生产7nm工艺制程芯片，单台售价高达1.2亿美元，而且供不应求，主要被Intel、台积电、三星等极少部分厂家所占。主要是ASML采取客户即要成为股东的策略，不但自身有极强的研发能力及装备技术、还有来自于客户的工艺技术参照、以及全球产业链的共同协作得到的顶级零部件，才有了ASML先进的EUV光刻机。国内不但受制于西方国家的科技封锁，还有面临美国随时极端的打压，即使中芯国际早已经在两年前就预定了一台EUV光刻机，但到现在是否能交付还是未知数。
反观国内光刻机，最好的SMEE也才只能达到90nm工艺制程。距离EUV光刻机比较遥远，只能加工低端芯片，如华为麒麟990、麒麟1000及以后的芯片，就根本达不到要求。虽然并不一定要EUV光刻机才能生产7nm工艺制程芯片，其它的也可以通过多次曝光等做到，但那样的效率低及高耗损是无法满足市场需求的。
好在国内已经看到了光刻机的危机，包括上海微电子、长春光机所、武汉光电国家研究中心等机构已经有了不错的战绩。比如上海微电子可能在2021年生产28nm光刻机、还有武汉广电所的9nm光刻机试验样机等，而中芯国际也在工艺制程技术上着力，通过N+1等技术实现接近7nm的制程工艺，假以时日相信能够突破光刻机的尴尬。
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回答于 2019-09-11 08:43:50
目前国内华为找的替代对象是中芯国际，目前中芯国际为华为生产的14nm的麒麟710A芯片已经完成交付，但是最近华为向台积电追加的7亿美元的7nm和5nm制程的芯片，目前中芯国际还生产不了，目前国内的造芯技术落后行业保守估计在5年，美国也是吃准了中国目前还造不了最新纳米制程的芯片，才卡华为脖子限制台积电交付华为！然而，目前利好消息就是中央向中芯国际注资200亿，来加快国内芯片的发展生产！造芯是一条艰难无比的道路，但是中国必须要走，这样才不会受制于人！
回答于 2019-09-11 08:43:50
90纳米，上海微电子的SSA600
希望今年28纳米能突破，不是一个西贝货，上海微电子SSA800
说7，14纳米的建议多看几遍教材。。
回答于 2019-09-11 08:43:50
好像是14nm的工艺
回答于 2019-09-11 08:43:50
不知道
回答于 2019-09-11 08:43:50
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国产光刻机能实现多少nm工艺制程？对于现在的国产光刻机来说，其实真的是任重而道远，我们目前能够生产出来最先进的光刻机制程在90纳米，属于上海微电子有限公司，而荷兰ASML公司现在已经能够生产出来7nm EUV光刻机。
国产光刻机的艰难发展历程
我国的半导体企业虽然目前落后于西方国家，但是在上个世纪的六七十年代，我们的半导体行业虽然没有达到世界一流水平，但是几乎差距是不太大的，更重要的是建立从单晶制造到设备制造，集成电路等产业链的完善。
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