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国产光刻机能实现多少nm工艺制程？
光刻,华为,芯片国产光刻机能实现多少nm工艺制程？
发布时间：2016-12-08加入收藏来源：互联网点击：
但是后来随着整体企业思维的转变，认为自己造的不如买的来的快，所以很多企业都是直接的放弃自主研发的道路，开始直接购买一些核心的设备，而这期间光刻机领域内霸主已经出现，就是荷兰ASML公司。
眼看他起朱楼，眼看他楼塌了，中国半导体在五十年代到七十年代创造的盛景成了泡沫。
再加上后续的研究没有跟上，导致我们在即便是在半导体行业中有一些成果，依旧没有在高端的光刻机领域内留下属于自己的声音，这未免成为遗憾。
而在21世纪初的时候，中国芯片进入到创业和崛起的时代，海外的芯片技术人才相继回国创业，而在2002年成立的上海微电子有限公司，就开始产于芯片的制造，但是直到2016年的时候，才能够生产出来90纳米的芯片，而且这个技术一直都无法真正的进行突破到20纳米以下。
目前我国光刻机和荷兰ASML公司生产的光刻机差距有多大
其实能够正事差距，才能够更好的去发展我们的产业，在07年的时候，上海微电子有限公司研发出来90纳米工艺的光刻机，但是已经过去将近13年了，依旧还是停留在量产的90纳米的程度，而荷兰ASML公司现在已经能够生产出来7纳米甚至是5纳米量产的光刻机，这里面的差距不可谓不大。
而要说真正的原因，其实并不能完全的怪上海微电子，这里面的最为核心元器件是西方国家一直禁止对我国使用的，比如说有瑞典的轴承和法国的阀件等。
就现在来说，光刻机的生产商大致能够划分为高端光刻机领域和中低端的光刻机领域，而上海微电子现在依旧是处于低端的光刻机行业，这是需要慢慢来培养国内外的供应链来进行发展的，总之差距依旧存在，任重而道远，那么大家还有什么不同的看法，可以在下方留言，咱们一起探讨！
回答于 2019-09-11 08:43:50
感谢您的阅读！
台积电的“停止接受华为订单”虽然被证明是谣言，可是我并不认为这是无风不起浪，我们的捕风捉影也间接感受到了台积电的压力。
一般来说，我们会说上海微电子的前道光刻机生产的90nm的工艺是我们目前生产的主要技术，和我们设想的台积电的5nm工艺确实有一定的差异。
但是，我觉得我国的技术并不仅仅是90nm的工艺，如果仅仅是90nm，也太简单了。毕竟，我不觉得我国技术会局限在90nm工艺制程。
很多人说我们的光刻机技术是被局限于外国技术的垄断，所以我国的光刻机发展困难。我的观点并不认同，我国光刻机技术目前在市场上没有大的突破，根源应该是我们的起步时间并不高。
荷兰ASML在2004年还是一个小厂，但是在现在仅仅16年的时间已经成就了国际大厂的范畴；而我们现在聊的上海微电子在2002年建立，到如今也有18年的历史，为何没有ASML发展的好呢？
我们总结几个原因：
1.外国技术的限制可能只是前菜，虽然外国技术确实会让我们难以招架技术的进步，但是我们并不能简单的认为光刻机技术，一定是受限于外国技术。ASML的成功也确实是因为它能够每年＞15%的研发投入。
2.ASML技术的不断发展，也是因为它拉拢股东，我认为这是核心。因为ASML能够让台积电，英特尔，三星等等企业成为它的股东，这才是ASML能够成功的核心。
3.合理利用全球化大生产，我们知道ASML能够合理的利用国际的合理化大生产，能够不断的让最好的技术作用到ASML中。
我国光刻机受限制，不能仅仅是技术封锁，这三个因素才是我们发现缓慢的因素共同影响。所以，我们说我国光刻机的未来有两条路：一条是模仿ASML之路，一条是突破束缚之路。
回答于 2019-09-11 08:43:50
中芯国际所采用的光刻机依旧是来自ASML，并不是真正的国产。目前国内光刻机最先进的制造企业是上海微电子，但目前也只能生产90nm的低端光刻机。相对于ASML有着至少15年的技术差距！
2002年，光刻机被列为国家863重大科技攻关计划，并由科技部和上海市共同推动成立上海微电子装备有限公司（SMEE），2008年国家进一步启动“02”科技重大专项主力上海微电子攻关克难！18年来，实现我国光刻机领域从无到有的突破，在用于封装的后道光刻机上面取得了非常不错的成就
，而用于芯片制造的前道光刻机——也就是我们常说的光刻机难度更高，目前只能实现90nm的低端产品……
端光刻机不是一家企业的任务，而是全套产业链的任务
ASML之所以能达到这样的高度，并不是荷兰有多厉害，而是全世界的产业链相结合。有多家大股东提供添加研发资金，有来自德国蔡司的镜头，也有来自美国的光源，更有三星的高精度机械组装；而ASML做到就是控制，把13个分系统，数万个零件完全调动起来！
上海微电子的任务和ASML相似，也是主导控制系统。这一方面是非常难的，看国内数控机床的控制系统就可以窥出一二了，而光刻机的控制难度更高……
其次，国内的产业链也达不到ASML产业链的高度，巧妇难为无米之炊呀！
我们做镜头的企业，做光源的企业等都与国外最顶级企业有着一定的差距。比如ASML的镜头来自德国蔡司，德国蔡司成立于1846年，以做显微镜起家，提起蔡司也总是与昂贵和高质量的光学镜头联系在一起。而镜头材质想要做到均匀，需要数十年的技术积累，还有“大国工匠”的手艺传承，可以说——同样一个镜片，不同工人去磨，光洁度相差十倍。我国企业显然并没有这样的底蕴……
总结
其实光刻机不是芯片制造的唯一决定因素，光刻机能做的其实只是“打地基”，在地基之上，还有许多工艺也是我国急需发展的，比如Dep，Etch，CMP，Anneal等……国产光刻机任重道远，需要发力的也不是只有半导体企业，更需要全国全产业链的配合！
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