您现在的位置: 首页 > 网站导航收录 > 百科知识百科知识
头条频频被提到的光刻机?以目前中国的科技技术无法研发制造吗?
光刻,技术,中国头条频频被提到的光刻机?以目前中国的科技技术无法研发制造吗?
发布时间:2020-12-06加入收藏来源:互联网点击:
头条频频被提到的光刻机?以目前中国的科技技术无法研发制造吗?
回答于 2019-09-11 08:43:50
回答于 2019-09-11 08:43:50
告诉你一个好消息,中国的光刻机SSA/800
_10W即将交付用户,这是11纳米光刻机,多次曝光可以实现7纳米制程。EUV在近几年也将交付用户。
回答于 2019-09-11 08:43:50
是的,目前我们不缺钱,但光刻机这东西就算我们投入再大,整体的工业科技水平跟不上,达不到生产制造光刻机的要求也还是没有用。现在,我们最缺的就是时间!
什么是光刻机?
大家可能都见过芯片的样子,就是一块黑乎乎的小块,小的只有指甲盖大小,但其实指甲盖甚至不如指甲大的芯片里,是集成了数以亿计的电子器件和数公里长的导线的。当然,要在这么细小的空间里放进去数量如此庞大且精密的元器件和导线,人工肯定是做不到的。
所以这就要用到光刻机,芯片生产制造中最重要的一个环节,就是要使用光刻机将复杂的电路结构印到晶圆上。
光刻的原理是在硅片表面覆盖一层具有高度光敏感性光刻胶,再用光线(一般是紫外光、深紫外光、极紫外光)透过掩模照射在硅片表面,被光线照射到的光刻胶会发生反应。此后用特定溶剂洗去被照射的光刻胶, 就实现了电路图从掩模到硅片的转移。
而光刻机所使用的曝光光源为紫外光,目前使用的能曝光最精细电路的紫外光是极紫外光(EUV),这种光刻机也被称为EUV光刻机。可以这么说,没有光刻机,就没有芯片。没有高端光刻机,就没有高端芯片。
什么是光刻机的制程?
光刻机有一个很重要的性能参数——分辨率,这个分辨率就是指对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度,一般用纳米描述,也就是芯片的制程。
我们知道东西越做越小,但是元器件确实越加越多,这是矛盾的,所以需要更高的集成度,这就要求光刻机需要打印的电路越来越精细度,也就是分辨率不断提升。7nm到5nm,再接下去就是3nm,集成电路的精细度越高,生产工艺越先进,芯片性能越强。
中国为什么造不出一个光刻机?
首先,光刻机并不是简单的一台仪器,光刻机包含各个学科的精华,数学、光学、流体力学、机械、精密仪器、高分子物理与化学、自动化、图像识别等等。实际的光刻机也不是一个国家就可以造出来的。
都知道生产光刻机的一哥是荷兰,但是美国为什么能控制它不卖给中国呢?那是因为里面有美国的技术,作为传统的科技大国,美国的技术早已经广泛地渗透到全球各个产业链的很多环节。
但即使是美国这样的科技大国,它也无法单独生产处高端光刻机。荷兰的光刻机可以说是科技全球化的典型产物,这里面是全世界各个领域高精尖的结合。
光刻机的蔡司镜头和机械工艺是德国的,光源设备来源于美国,光学器材技术来自于日本,制程分配技术由美国的英特尔、中国台湾的台积电、韩国三星等一并提供,此外,轴承来自于瑞典,阀件来自于法国。
中国,作为一个后面才发展起来的国家,虽然科技取得了巨大的进步,经济也到达世界前列,但整体工业科技水平还不足以制造出高端光刻机,这不是钱可以解决的。
结语
垄断、封锁,这也不是第一次了,以前原子弹都可以造出来,现在没理由被光刻机难住,时间问题而已。
回答于 2019-09-11 08:43:50
中国可以制造光刻机!只是在这个领域上我们的技术相对落后,高端光刻机我们还无法制造,但是最新消息又显示我国的先进光刻机即将到来。
1、现有量产光刻机最高制程是90nm
现阶段来说我们能量产的光刻机制程是90mm(下图),由上海微电子制造生产,这已经是国内最先机的光刻机了,其他厂商的光刻机制程更落后,一般都是200nm~300nm这样。
在整个光刻机领域来说,这个量产机型的制程属于低端领域,相较于荷兰ASML 7nm光刻机的差距是巨大的,即便是和日系厂商尼康、佳能相比也是落后的,这2家目前处于中端领域。
不过,上海微电子的低端光刻机在全球范围内市场占有率还可以,低端市场8成使用的它们的光刻机。
2、国产先进光刻机曝光最高可实现11nm
这2天有或许是由于美工断供华为芯片的新规出现,业内曝光出了上海微电子最新光刻机的消息,有未经证实的消息称上海微电子SSA/800-10W将于年底下线,单次曝光可实现28nm制程(软件操作界面),如果成为现实那这台机器将是我国最先进的光刻机,基本上直接超过日系厂商,成为全球第二先进的光刻机生产国。
根据消息显示SSA/800-10W采用ArF光源,使用的套刻精度在1.9nm左右,多次曝光可以实现11nm制程工艺,如果改用套刻精度优于1.7nm的华卓精科工作台通过多重曝光可实现7nm制程工艺。
其实,28nm的制程光刻机是十三五计划项目之一,其时间节点就是要求在2020年底实现。结合上述消息看的话,基本上这台光刻机是稳了,估计2021年最晚2022年可以量产。
此外,我国也正在研发基于EUV光源的曝光机,这个由长春机电在研发。未来如果取得突破那么将意味着我们能有自己先进的EUV 高端光刻机,届时7nm制程就不需要多重曝光了,可直接上。
Lscssh科技官观点:
美国在5月15日对华为再度下手断供芯片,此举可以说对我国半导体产业产生重大影响,将进一步促进我国在这个领域的投入和研发,相信在未来我们的科技水平将会有大幅的提升。光刻机这一难关我们也一定能度过,未来我们一定会拥有自己先进光刻机。
感谢阅读,给点个赞鼓励下呗,欢迎关注【Lscssh科技官】,谢谢~~
上一篇:和平精英有几个赛季手册?
下一篇:返回列表
相关链接 |
||
网友回复(共有 0 条回复) |