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中国高端光刻机技术现在如何？
光刻,技术,中国中国高端光刻机技术现在如何？
发布时间：2019-02-08加入收藏来源：互联网点击：
日本做到黄光，最后无法再往紫光挺近。日本尼康当年也是供应英特尔光刻机的。但是做到后面逐渐赶不上了。日本国内的普遍看法是，光刻机上面日本太过封闭了，太讲工匠精神，没有融入全球化产业链当中。很多的技术，即使日本人很努力的，终身雇佣制的专家奋斗一辈子，他们也没有攻克技术壁垒。
所以日本人常说，99分和100分的技术，差距是很大的。而中国现在90分。
我们怎么办？
既然《瓦森纳协定》有33个国家，签署过累积有42个国家，墨西哥、阿根廷都在列，那么增加这方面的投入，加入进去应该是可以的。首先要进入规则，然后通过技术实力来主导规则或者改变规则。也可以通过像英特尔、三星和台积电的做法，反向用技术和资本来资助ASML，来主导整个摩尔定律。
回答于 2019-09-11 08:43:50
中国目前并没有高端光刻机呢。世界顶尖的光刻机源自ASML，其也是全球唯一可以供应 EUV 光刻机的半导体设备大商。
ASML光刻机年产量大概也就只有20来台，价格不是一般的高昂，即便有钱也未必能买到。而目前台积电与三星都已经导入 EUV 光刻机来实现 7nm 工艺高端芯片的量产。
国产光刻机巨头--上海微电子
上海微电子主要从事半导体装备、泛半导体装备以及高端智能装备的设计制造销售，其中光刻设备是公司的主营业务，在光刻设备领域拥有全国最先进的技术。
ASML目前已实现7 nm EUV光刻先进工艺，并向5nm EUV制程工艺进发。而国内而言，上海微电子光刻设备领域拥有全国最先进的技术。亦是代表着国产光刻机的最高水平。由于起步较晚且技术积累薄弱，目前技术节点为90 nm，且多以激光成像技术为主，客观上与国际先进水平存在较大差距。
中芯国际
国内比较薄弱的是半导体设计及制造，尤其是半导体工艺。目前台积电、三星已经实现7nm工艺芯片量产，而中芯国际还在14/12nm中“徘徊”着。而更高性能芯片更依赖外有先进工艺。
中芯国际在高端工艺上是在不断追赶，肩负着国内高端芯片制造的使命。中芯国际目前量产的最先进制程为14nm，而12nm已经取得重大突破。要想进一步提升，就需要在工艺上不断进步。EUV光刻机主要用在7nm及以下制程，还得依靠ASML光刻机设备。要知道的是，7nm EUV 光刻机目前全球只有ASML一家公司有能力生产。
而目前ASML的EUV光刻机延迟交货，对我国半导体产业的快速推进造成一定程度上的打击，或也会牵涉到中芯国际在高端工艺技术的布局与时程吧。
回答于 2019-09-11 08:43:50
重视基础教育，加大基础科研，努力储备人才，实现半导体行业各个工序整体崛起
回答于 2019-09-11 08:43:50
弯道准备就绪，可以开车上了
回答于 2019-09-11 08:43:50
看看荷兰，美国的态度就知道中国的光刻机到哪了，不紧追到屁股他们能这么急吗。
回答于 2019-09-11 08:43:50
可能还是在跟踪，追赶之中吧，毕竟我们国家在这方面发展较慢，需要获取的新技术又太多了，只能是一步一个脚印地走，做到尽量缩小与先进国家的差距。
回答于 2019-09-11 08:43:50
光刻机一台售价1.2亿美元，去年中国对荷兰贸易顺差600亿美元，不行十倍加钱买一台，做生意嘛，谁和钱有仇
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