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中国高端光刻机技术现在如何?
光刻,技术,中国中国高端光刻机技术现在如何?
发布时间:2019-02-08加入收藏来源:互联网点击:
光刻机发展核心要靠光学
上面提到的SMEE其实只是光刻机的系统制造商而已,其自身并不生产任何光刻机相关零配件,用直白的话说,SMEE本质上仍旧是全球采购然后组装(当然这里面并非没技术含量)。因此,想要真正生产出高端光刻机,并且在零部件上不受制于人,不能仅靠SMEE,核心还是得提高我们整体制造业的水平。
尤其是光学器件,因为对光刻机来说,最核心的技术其实是对光学的应用,现代光刻机核心三大件是光源、镜头、光栅,这三项都属于光学器件,分别由美德两国掌握。日系厂商这2年没有取得突破,核心问题也在这些零配件上,可以说这些技术内容直接卡了中日两国的脖子。
因此,未来我国想要进军高端光刻机市场,并且想要完全实现独立自主,那么势必要在这些核心领域取得突破,否则今后仍旧会受制于人。
Lscssh科技官观点:
最终想说我国的光刻机还处于较低的水平,但我们已经在快速的发展中,未来几年应该能拉进和竞争对手的距离。同时,如果想要彻底摆脱被外国企业断供的可能,那么则需要更长的发展时间,需要国内整个制造业水平的提升,尤其是光学领域。
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回答于 2019-09-11 08:43:50
世界顶级的光刻技术是5纳米,实用产业阶段的是7纳米,美国和日本自己过去研制的达到14纳米,但是已经放弃了继续研发的想法,我们的多种原因的影响,直到这一两年来取得了突破,已经达到了22纳米级别,算是在世界上属于第三梯队的存在,跟先进的还是有不小的差距,这一点不得不面对现实。
去年年底跟荷兰方面谈拢了购买荷兰7纳米级别的光刻机,荷兰方面口头答应了卖给我们,只是在后来这家公司仓库突然异常失火,加上这几天突然宣布顾及到美国的感受,所以暂停售卖我们光刻机,虽然说第二天又改了一个说法是重新申请出口许可的原因,其实意思很明显就是想卖卖不出来,不想得罪美国又不想失去中国市场不想引起中国方面的反感,所以就换了一个好听一点的理由而已。
核心技术我们仍然被卡脖子,不能把科技希望寄托到别人身上,特别是这种现实应用型尖端设备,对科技发展影响巨大的东西,更应该掌握在自己手中比较好,有求于别人其实是非常被动的,要看别人的心情和脸色,这种感觉是相当不舒服和憋屈的,知耻后勇发奋图强是我们现在最需要做的一件事,自己不能掌握先进技术永远会是被动的无奈的。
光刻机技术的难点来自三个方面,一个是稳定的光源,一个是稳定和精密度极高的工作平台,一个是光刻机的镜头镜片工艺,这三个是影响光刻机突破的最大难度,光源还好说,我们国内的激光技术非常厉害,对于光刻机的稳定光源其实难度并不是特别大,我们的问题出现在镜片和工作台的精密度上面。
这就要涉及到了尖端精密机床加工工艺,和材料学上面了,镜片打磨需要非常精密的加工工艺才行,荷兰光刻机上的镜片就是德国提供的,有科学家曾经说过,光刻机镜片的平整度要求极高,就好比把镜片放大到200平方公里的面积,表面的不平度要在十厘米以内,这是什么样一个概念可想而知,要多厉害的精密机床才能做出来,而我们缺少的就是这种机床。
国内的机床水平其实跟日德美还是有差距的,这也是导致了许多的东西被卡脖子,还有就是在材料工艺的处理上面,在这上面其实也是影响巨大的,虽然说我们已经突破了22纳米,但是离7纳米还有两个级别的差距,不要小看这两个级别,差距比较大的,更不用说5纳米级别了,所以说我们需要努力的地方还很多,不过相信我们的聪明才智,别人能做到的我们也一定能,只是需要一点时间,还需要花更多的心思才行。
回答于 2019-09-11 08:43:50
目前的光刻机技术还是原始水准的,如果我们不能在技术上实现弯道超车,就会受制于人,未来只可能在粒米面积上的储蓄片上可容纳超级数据,换言之,我们国家现在最强大的计算机将来不如烟盒大小的计算机,这就是未来,而且耗电量趋于零,又称未来黑科技,现有的将被全部淘汰掉,光刻机或许支撑不了几年了,量子技术正在进行时,更未来的将是信息码的无限存储及使用,将是在空中无形的,都是可控的,每个信息单元都微于分子,各行名业也是翻天覆地的改变,那时人们不再忆起今日的光刻机。
回答于 2019-09-11 08:43:50
世界上最先进的光刻机来自于荷兰的ASML,制程工艺为7nm,明年有望实现5nm。我国的高端光刻机来自于上海微电子,成熟的制程工艺为90nm,落后10年以上。
上海微和荷兰ASML在光刻机上的差距,反映在中西方精密制造领域的差距。一台顶级的光刻机,关键零部件来自不同的发达国家,美国的光栅、德国的镜头、瑞典的轴承等,可以说集人类智慧大成。由于《瓦森纳协定》的限制,这些精密零部件和仪器对我国是禁运的。
荷兰ASML光刻机
目前,光刻机领域的龙头老大是荷兰ASML,占据了高达80%的市场份额,而最先进的EUV光刻机,全球只有ASML能够生产,7nm制程工艺的EUV光刻机,单价超过了1亿美元。
光刻机的技术门槛极高,整个设备的不同部位同时采用了世界上最先进的技术,德国的光学技术和超精密机械、美国的计量设备和光源设备等。ASML需要做的是精密控制,将误差分散到13个系统,3万个分件中,如果德国的蔡司光学设备不准、美国的Cymer光源不精,那么ASML瞬间失去了精神。
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