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中国高端光刻机技术现在如何？

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发布时间：2019-02-08加入收藏来源：互联网点击：

中国高端光刻机技术现在如何？

回答于 2019-09-11 08:43:50

回答于 2019-09-11 08:43:50

光刻机技术，荷兰ASML公司是目前全球最先进的企业 ，其提供的光刻机技术已经达到7nm水平，目前国内有关光刻机技术还处于90nm工艺水平，要达到28nm工艺水平，也需要借助国外光刻机实现。目前中芯国际，华虹集团已经实现28nm光刻机量产，14nm工艺研发也已完成，他们在国内的年销售额位居第一和第二。





那么中国光刻机技术和国外的差距水平到底有多大？根据中科院院士刘明的说法，目前国内光刻技术与国外差距大约15~20年，刘明院士坦言，目前光刻技术是整个集成电路中我们与国外差距最大的。 目前荷兰一台机七nm光刻机，价值1亿多美元，而且是全球唯一供货商，目前被终止交货的这台光刻机，按照计划将于年底交付，价值1.2亿美元，近9亿人民币，是目前世界上最先进的，不仅中国，韩国，日本和美国等先进国家也要从荷兰进口，这部光刻机关键零件，来自美国，德国，瑞典，法国，这些全球顶级零配件，全都禁止出口中国，所以ASML公司自信地说，“即便给你全套的图纸，你也造不出来”。





即使中芯国际拥有一台7nmmASML光刻机，也有很多使用限制，不能自主CPU代工，也不能给龙芯，申威，等自主CPU代工或者商业化量产，在很大程度上，影响了自主技术的发展，如果失去先进光刻机技术，中芯国际就无法进军国际高端市场。中国在许多科技领域，都曾经被外国人卡脖子，但是中国人民有志气有能力，经过广大科技工作者的不懈努力，一步步攻关，终究克服了困难，赶超世界先进水平，甚至实现弯道超车，如中国的高铁技术，5G技术，就是在压力下取得的成果，有压力才有动力 ，中国科学家有能力，克服困难，研制出自己的光刻机。





中科院光电技术研究所研究员胡松，在接受记者采访时说，“如果国外禁运，我们也不用怕，因为我们这个技术再走下去，我们认为可以有保证。在芯片未来发展，下一代光机电集成芯片，或者我们说的广义芯片，有可能弯道超车，走在前面”。值得一提的是，中国科技人员研制成功了九nm光刻实验样机，是一种功能非常强大的光刻机，是一种没有参考任何西方技术新思路，新方法，其光刻技术与目前的主流光刻技术不同，波长更长，成本更低，在这方面，如果发展顺利，很有可能实现弯道超车，不但技术领先，而且可以大幅降低光刻机成本。





面对中国的崛起，西方大国，怕得要死，恨得要命，千方百计阻碍中国发展的脚步，用禁运和封锁卡中国的脖子，但是他们的阴谋不会得逞，正如伟人所说的一句话：“封锁吧！封锁它十年，八年，中国的一切问题都解决了”！

蓝色的忧伤

回答于 2019-09-11 08:43:50

国望光学、上海光机所（上海微电子），长春光机所参与研发的国产光刻机已于2017年首次曝光成功，且曝光光学系统在整机环境下已通过验收测试，目前90纳米国产高端光刻机已顺利验收交付。上海微电子自主生产的SSA600/20光刻机，可以用来加工90nm制程工艺的芯片，如果用来生产军用和航天芯片，那一点问题也没有，但是如果用来制造消费类电子芯片，那只能死路一条，我国能够实现的大规模商业化精度仅仅只达到了90nm，与国外顶级商业化生产差距至少达到了10年

而中国目前最新的65nm光刻机还在设备验证阶段，但这也为中国自主研发28nm双工件干台式及浸没式光刻机奠定了基础。

还有最近中国自主研发的14nm先进制程工艺光刻机已经初步通过专家组的验收和审核，但是如果需要实现量产仍然需要一段时间。

但是，对于中国来说，这是一个极大的进步。而这也让三星非常羡慕，因为韩国尚无法研发光刻机。让华为、中兴等如虎添翼。

未来中国的光刻机将不再受制于人。

还有华中科技大学的甘棕松教授已经用跟ASML公司完全不同的技术路线，首次在世界范围内实现了单线9纳米线宽的超分辨光刻，而且成本只是动辄1亿美元的主流光刻机的几分之一，国产9纳米光刻机即将出现。

回答于 2019-09-11 08:43:50

首先确认一点，我国不存在高端光刻机！

全球光刻机领域背景

全球光刻机领域如果按照高中低来区分的话，我国排位最末，整体处于低端水平；中端市场则有日本的尼康和佳能把控，这两家在过去的10年中进展不利（主要烧不起钱了，日本的经济大家也知道），整体水平止步不前，最终不敌荷兰的ASML，彻底退出高端领域。至于ASML就不说了，近10年来发展神速，已经彻底掌控了整个光刻机高端市场，占了全球光刻机80%的市场份额，代工厂商想要使用最先进工艺来生产芯片，没它的设备就不行。

我国光刻机发展情况

上海微电子（SMME）：这是我国唯一具备光刻机整机生产能力的厂商，2002年时零起步，现在能生产支持90nm工艺的光刻机（SSA600/20），这个工艺相对于ASML最先进的7nm光刻机可以说差距相当大。如果按采用光源来计算代差，那么至少差了3代。

当然，SMEE前进步伐不可阻挡，最新消息显示现在已经完成了65nm制造工艺的研发，未来1-2年可量产，而28nm的工艺已经在研发中。

就我国的现状而言，人家已经在研发5nm工艺的光刻机，而我们还在研发28nm的工艺，这当中还差了14nm、12nm、10nm、7nm这些工艺。所以，单就现在来说，我国根本就不存在什么高端光刻机。

武汉光电国家研究中心：2018年时曾有消息称，我国研制出了9nm光刻机，其实这是新闻的误报，这则新闻里所提到的技术其实是能光刻出9nm的线宽的线段，或许对光刻机研发有帮助，但和真正的光刻机风马牛不相及。

最后看一下目前其他国产光刻机厂商的进展吧，见下图。

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