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我国的光刻机开发得怎么样了，芯片什么时候有望国产化？
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发布时间：2016-12-08加入收藏来源：互联网点击：
回答于 2019-09-11 08:43:50
【荷兰ASML高端光刻机10万个配件来自60多个国家的先进技术，我国单靠自己的实力很难发展 】
“落后就要挨打”，我国现在面临着被美国和欧盟技术封锁的局面，已经无法向其他国家学习核心的芯片技术和购买高端的光刻机，唯一能实现科技复兴的方法，就只能靠自己投入大量的资金去研发了。
光刻机的差距
众所周知，制约国产芯片发展的并不是芯片设计，而是芯片的制造工艺水平，在芯片制造过程中，高端的光刻机与制程工艺是芯片的核心关键，目前5nm制程高端光刻机只有荷兰的ASML能做出来。我国目前最机密量产使用的光刻机由上海微电子生产，只能实现90nm制程工艺，不过目前14nm技术的光刻机首台也已经交付中芯国际使用，但是相比ASML的光机距离还不小。
光刻机的工作原理
工作原理该段内容来源网络
光刻工艺是指：光刻胶在光照的作用下，将掩模版上的图形转移到硅片上的技术。 光刻技术原理起源于印刷中的照相制版。在半导体芯片制作过程中，电路设计图首先通过激光写在光掩模版上，然后光源通过掩模版照射到附有光刻胶的硅片表面，引起曝光区域的光刻胶发生化学效应，再通过显影技术溶解去除曝光区域或未曝光区域，使掩模版上的电路图转移到光刻胶上，最后利用刻蚀技术将图形转移到硅片上。
光刻机难在哪里
研发资金的投入：研发光刻机需要大量的研发资金，目前上能做光刻机的厂家除了ASML，还有佳能和索尼，但是该两家都是因为缺乏研发资金而宣布退出市场，可想而知需要的资金有多大。
光刻机配件技术的突破：荷兰ASML的光刻机大概有10万个零配件组成，这些零配件来自世界至少60多个国家，主要设备还是美国和欧盟国家提供。在这一点，我们面临的技术封锁上，使我们无法获得这些先进的零配件，只能自给自足，所以这将严重的拖延我们光刻机的开发进度。
总结一下
虽然我们光刻机还达不到ASML那么先进，但是相信在不久的将来，通过全球贸易的手段，能缓解和欧盟之间部分国家的关系，可以采购到先进的零部件。或者通过自主研发的能力，弯道超车，开发出新型光芯片的能力。就像5G技术一样，一跃成为
回答于 2019-09-11 08:43:50
有一句俗话说得非常好“落后就要挨打”，而现如今我国正面临着落后就要被封锁的局面。在全世界兴起科技发展的浪潮后，我国由于基础技术薄弱，发达国家已经掌握了的技术，而我们还在苦苦专研，一直以来都在奋力缩小与西方国家的差距。然而，随着社会发展的加快，我国许多高科技技术只能采取先引进后研发的策略。但是，这个时候却遇到了西方国家的百般刁难，甚至其核心技术根本不会对我们开放，而芯片技术就是其中之一。
眼看我国科技企业逐渐兴起后，美国为首的西方国家立马开始施压打压，其中华为、中兴等企业深受影响。
不过，该来的迟早都要到来，也许美国将咱们逼上绝路也是一件好事，让我们彻底丢掉了幻想，之前还认为可以用钱购买芯片生产电子产品，如今看来，只有自主研发才不会被别人卡脖子。虽然芯片研发的时间很长，需要花费大量的人力及财力资源，但是只要中国人下定决定，就没有什么能够难倒我们。
美国的打压给我国敲响了警钟，国家层面开始高度重视核心技术研发，我国各行各业也都奋发图强，一定要造出属于我国自己的芯片。皇天不负有心人，如今中国芯接连传出好消息，我国芯片有了突破，芯片制造工艺也有了质的提升。
众所周知，制约国产芯片发展的并不是芯片设计，而是芯片制造过程中的工艺水平，不得不承认西方发达国家在该领域的造诣的确很高。在芯片制造过程中，光刻机与制程工艺是芯片的核心技术，而美国恰好垄断了该技术。
不过，我国芯片代工巨头中芯国际在去年已经正式投产了14nm芯片，而麒麟710A芯片就是使用的中芯国际14nm工艺技术。不过14nm已代表不了目前的技术革新，但是中芯国际负责人则强调，在今天第四季度7nm工艺制程有望投产，这才是重头戏，让咱们拭目以待吧。
说完制程工艺，我国国产光刻机也传来捷报，研发芯片所依赖的光刻机也有了重大突破。之前全球的光刻机都被荷兰人所垄断，但是由于西方国家之前达成了协议，该技术拒绝对华出售，所以光刻机制约了我国芯片研发进程。不过这一切，将一去不复返。
中国半导体企业安芯半导体公司自主研发的光刻机已经工程交付，遗憾的是该光刻机并未实现百分之百国产化。但是，国产程度已经达到了百分之九十左右，可以说这样的成绩已经十分了不起，毕竟咱们才刚刚实现从无到有的过渡，相信随着技术的不断完善，我国将很快拥有完全国产化的光刻机。
目前我国第一台由福建安芯半导体公司制造的光刻机在2020年4月份正式交由海康威视，虽然这台光刻机目前还不能完全实现芯片的自主研发，但它依旧在我国芯片制造方面发挥了巨大的价值。
同时福建安芯科技并没有停止对光刻机的生产改造，相信在他们以及国内其他企业的联合下，光刻机实现自主研发指日可待，我国科技公司最终也能摆脱在国外寻找芯片代工厂的命运。
相信随着我国在该领域大量的投入，我们能很快走出困境，最终迈入该领域世界前列。
回答于 2019-09-11 08:43:50
咱们国内最先进的光刻机，已经可以满足90nm光刻工艺需求了！
咱们国内技术最先进的光刻机制造商上海微电子的90nm光刻机项目，于2018年3月正式通过验收！
上海微电子的600系列光刻机SSA600/20已实现90nm分辨率，可以满足IC前道制造的90nm光刻工艺需求！
全球光刻机制造领域，主要有荷兰阿斯麦ASML、日本尼康、日本佳能、中国上海微电子等厂商！
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