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“神兽”光刻机之战，大胆猜测哪一家中国公司能够解光刻机之围？
光刻,荷兰,技术“神兽”光刻机之战，大胆猜测哪一家中国公司能够解光刻机之围？
发布时间：2020-12-06加入收藏来源：互联网点击：
而且光刻机的技术是需要多方面的集成，有来自德国的技术，比如说镜头就是来自德国的蔡司，还有美国的光栅元器件，瑞典的重要轴承，法国的阀件等等众多重要的设备都是来自不同国家提供的，所以使得光刻机制造难度更加之大。
这还不是最重要的原因，重要的原因是因为光刻机的设备是培养周围零部件的重要公司，而我国在光刻机零部件方面则是空白的都是需要慢慢的进行成长的，还有一点就是其这些顶级的零器件都是对我国禁止运送的，所以成长的速度是非常之慢。
国产光刻机正在逐渐成长，上海微电子公司不断进步
目前我国能够研发出来的光刻机的公司为上海微电子有限公司，但是能够制造的芯片制程只有90nm，可以说这个制程的水平和国外相差是非常之大的，应该差不多有20多年的时间，因为现在荷兰最先进的光刻机能够生产的芯片制程为7nm，而且单是一台光刻机的价格就能够达到1亿美元的天价，所以需要打破国外垄断的光刻机是势在必行的事情。
而随着我国科技实力的不断加强，国产光刻机和荷兰顶级的光刻机中间的差距也是在慢慢的变小，此前有这样的一个报道，我国利用紫外线光源能够实现22nm分辨率的光刻机也是能够慢慢出现。
还有最为重要的一个因素就是，生产光刻机是一家企业无法做出来的产品，是需要多家企业来进行研发和提供零部件的，所以我们只能够通过慢慢的发展光刻机周围零部件来实现其进步。
最后，对于说这个集成人类智慧结晶的产品，它的研发和制造都是非常具有意义的，而目前最为先进的光刻机技术依旧掌握在西方国家手中，所以我们只有通过不断的努力进步发展才能够实现国产光刻机的自主化，那么大家还有什么不同的看法，可以在下方留言，咱们一起探讨！
回答于 2019-09-11 08:43:50
感谢您的阅读！
中芯国际的N＋1技术的出现，让我们对于7nm光刻机似乎就不再担心了。因为有消息称，N+1 技术已经可以接近7nm工艺了，甚至可以取代7nm工艺了。这种说法确实有点夸大，虽然我们也知道，它的性能提升 20% 的同时降低 57% 的功耗、并将逻辑面积减少了 63%。
让我很遗憾的告诉你，虽然它确实提升了性能。可是，它和真正的7nm工艺还是有一段不小的距离，
其实，中芯国际已经非常杰熟练的掌握了14nmFinFET 制程工艺的量产，而中芯国际最新研发出了N+1和N+2工艺，也在不断的缩小我们在技术方面，和国际社会的差异。可是，光刻机领域，我们还是和ASML有一定的差异性。
确实我们寄希望于上海微电子，但是它的技术目前是90nm光刻机——
可是我们也不需要妄自菲薄。我觉得像中科院等一些国内研究光刻机的机构，他们一定会通过其他的途径，解决光刻机的问题，绕过技术方面的壁垒，带来全新的技术升级。
回答于 2019-09-11 08:43:50
如果题主说的“解围”是中国自主造出光刻机，那么答案是没有。
先来说说光刻机最核心的技术—镜头。
荷兰ASML光刻机采用的反射镜头是由德国蔡司公司生产的，其表面缺陷用“皮米”（10的负12次方米，微米的百万分之一），曾经有过比喻：如果反射镜有德国面积那么大，镜头缺陷不能超过一厘米。单单镜头这一项技术，我们的差距就不是10年20年能够追得上的。目前光刻机的制程精度达到5nm，其所具备的光学精度，机械精度等全部要在“皮级”，同样在精密机械技术上的能力也是远远不及的。
再说说世界上的光刻机厂商。
三大厂商—荷兰ASML，日本尼康，日本佳能，几乎占据了全球光刻机的全部市场，而ASML凭借浸没式系统在10年前占据了主导地位，市场份额在80%以上。尼康和佳能由于精度不够，逐渐推出半导体芯片光刻机的竞争，转而求其次，占领了液晶面板的曝光机市场。小编自己曾经就是尼康曝光机的设备工程师，用于制造液晶屏幕。而即使是液晶面板的曝光机，其精度在微米级别，国内仍然很少有厂商能够与尼康和佳能竞争，目前国内最大的液晶面板厂（如京东方，华星，熊猫等）用的曝光机都是尼康和佳能两家的。
ASML背后集合了全球顶尖技术
即使ASML也不是完全自主研发的，其通过技术合作，外包和收购，将全球最顶尖的光学，半导体和精密机械技术集于一身。其霸主地位得到美国和欧盟的极力支持。例如ASML就曾收购了美国的光刻机公司SVGL(硅谷光刻集团），而光刻机的激光光源通常也来自于美国供应商，其近80%的部件都来自于欧盟和美国其他企业。
最后想说的是，光刻机的研发，不仅仅是一台机器，更需要完整的产业链支撑，以及激光，精密机械，光学设计等基础学科能力的积累。作为一名曾经的光学工程研究生，希望未来有一天，我国也有能力在顶尖半导体行业与ASML一较高下。
回答于 2019-09-11 08:43:50
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