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“神兽”光刻机之战，大胆猜测哪一家中国公司能够解光刻机之围？
光刻,荷兰,技术“神兽”光刻机之战，大胆猜测哪一家中国公司能够解光刻机之围？
发布时间：2020-12-06加入收藏来源：互联网点击：
比如2018年8月份，清华大学的研究团队研发出了双工作台光刻机，这使得我国成为全球第二个具备开发双工作台光刻机的国家；
此外，中科院光电所也成功研发紫外超分辨光刻机，该光刻机光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片；
2019年武汉光电国家研究中心的团队已经成功研制出就纳米光刻技术，该光刻技术使用远场光学，雕刻最小线宽为9nm的线段，实现了从超分辨率成像到超衍射极限光刻制造的重大创新。
至于未来谁会成为我国高端光刻机解围的突破者，在这我们不好作出判断，目前我国有很多跟光刻机有关的企业，他们都有可能成为拓荒者。
比如上海微电子设备公司，其性能最好的是SSA600/200工艺，能够达到90nm的制程工艺，这是目前我国已经量产的最高技术光刻机，相当于2004年奔四CPU的水平；
比如合肥芯硕半导体有限公司也是国内首家半导体直写光刻设备制造商，该公司自主研发的ATD4000，已经实现最高200nm的量产。
比如无锡影速，这个公司是由中科院微电子研究所联合业内资深技术团队、产业基金共同发起成立的专业微电子装备高科技企业。该公司已经成功研制用于半导体领域的激光直写/制版光刻设备，已经实现最高200nm的量产。
但是我认为要实现我国光刻机技术的突破，不能单靠某一个企业势单力薄的去搞研发，而是要综合国内的各个企业技术优势合作研发，这样才有可能尽快实现技术上的突破。
比如作为全球最先进的光刻机制造商ASML，它也不是完全靠自己的实力发展到今天的，它的背后有全球多个国家和企业的支持，比如由美国企业提供光源设备，由德国企业提供镜头等等。
此外包括台积电，三星，英特尔等一些芯片厂家不仅给ASML提供资金支持，同时也给他提供技术支持。目前一台EUV7nm纳米光刻机由3万多个零部件构成，这些零部件来自很多国家，也正因为在多个国家的共同努力之下ASML才能够雄霸天下。
所以我认为想要提高我国光刻机技术水平，缩小跟国际先进水平的差距，我国企业更应该团结在一起，通过合资等方式集中优势力量，而不是单枪匹马，这样才有可能尽快研发出更先进的光刻机来。
回答于 2019-09-11 08:43:50
用不了一年光刻机就解决了，量产需要二年，满足国内需要三年，三年后光刻机价格会下降到现在的五分之一这样。因为国家投入资源和吸引人才力度世界第一。剩下的就是时间，三年时间足够了。
回答于 2019-09-11 08:43:50
这玩意儿我估计很难国产了，一来技术太难，很多基础的东西差太远，二来成本和市场太不划算。估计最后还是靠科技发展直接有替代的产品
回答于 2019-09-11 08:43:50
量子物理是我们的强项，也是今后我们的优势，为未来布局，应该研究基于量子应用的计算机及其软件、量子芯片、军用量子通信设备，要制作出适应量子应用的芯片，那时，就是我们扬眉吐气之时！
回答于 2019-09-11 08:43:50
中一光学！哪天中一光学镜头市场份额超过尼康佳能，就有希望！你们觉得什么时候做得到？连光学技术都没达到尼康徍能水平，怎样去叫板蔡司和徕卡？手机镜头厂技术不管用！
光学技术能达到蔡司徕卡水平，不到世界第一，世界第二也跑不掉！
回答于 2019-09-11 08:43:50
euv是地球技术制造能力结晶，单纯靠国内企业，十年之内不可能。十年之后，顶级水平早就变了。目前解决问题的办法就是合作，不能合作就逼着他们合作
回答于 2019-09-11 08:43:50
自主光刻机最先进的是武汉生产的光刻机，21纳米，多次光刻可以实现9纳米生产工艺！
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