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头条频频被提到的光刻机？以目前中国的科技技术无法研发制造吗？
光刻,技术,中国头条频频被提到的光刻机？以目前中国的科技技术无法研发制造吗？
发布时间：2020-12-06加入收藏来源：互联网点击：
荷兰ASML光刻机采用了EUV极紫外技术，光源波长可以控制在13.5nm以内，其工艺等级可以达到7nm的精度（头发直径的万分之一），单台设备的售价可以轻松超过1亿美元。
而且荷兰ASML已经向市场推出了其新一代极紫外光刻机NXE3400C，工艺精度可提升至5nm，台积电公司目前正在规划生产的5纳米制程核心设备正是预备了该型号设备。
日本Nikon光刻机则是80年代的霸主，曾经也几乎垄断了世界市场，但由于技术路线的问题，其光源始终无法将波长精度进行提升，因而在2000年后迅速没落。日本Nikon和Canon，其最高等级工艺精度勉强能达到14纳米。
中国有能力制造高端光刻机的公司，是SMEE上海微电子公司，但其最成熟的制程工艺精度仅能达到90nm，最新研发技术可以达到28nm，但尚未量产。当然，90纳米精度已足够应付军工航天等战略芯片的量产需求了，至少我们并不担心被彻底掐住脖子。
2.光刻机是集大成者，强如荷兰ASML也不能独家制造，需要全球技术协作。
光刻机是芯片制造工艺中无可争议的核心设备，它的功能是将设计好的芯片二极管结构，以极高的精度（7纳米级别）以光源造影的方式雕刻在小小的芯片上，实现芯片的架构定型，对精度要求极高。
一台光刻机10万多颗零件，需要极为精密和稳定的协作，才能实现它的功能需求。
所以强如ASML也无法独自制造出光刻机，它选择了正确的工艺路线和主体架构，整合了当今世界上最顶级的关键零部件。如德国蔡司反射镜，可以做到皮米级别的精度；再如顶级UV光源Cymer、光刻检测系统Brion、蔡司光学镜头等等。
ASML最新型号的光刻机，采用的零件近90%都是从荷兰以外的国家进口。
3.技术迭代可以推进光刻机技术垄断，我国现有光刻技术稳步追赶，新技术与国际同步，有望实现后来居上。
ASML能从后来者路上，超越日本双子座Canon和Nikon，也是技术整合的经典案例。
早知道在2000年以前，日本Nikon才是光刻机市场绝对的霸主，长期占据50%左右的份额，和Canon一起占据了世界近80%的市场，ASML甚至一度濒临破产。
伴随着日本干式投影技术路线走到无法克服的瓶颈期，和ASML选择浸润式投影路线的崛起，ASML光刻机实现了在更高精度下的更高效率，在市场上大受欢迎。由此，日本光刻技术逐渐没落，而ASML也实现了绝地反击下的后来者居上。
ASML浸润式极紫外光刻技术，几乎垄断了半导体高端市场。但随着技术的发展，其也终将面临“摩尔定律”的瓶颈制约。
目前多个国家和机构也争相在研究下一代光刻技术，一旦技术形成突破，像ASML那样实现技术超越，并非是不可能的事情。
半导体是电子行业无可争议的掌上明珠，随着美国为首的西方加紧对中国技术发展的收缩，中国想要实现制造2025和未来工业的进步或领先，半导体将是我们的核心产业，所以光刻技术就必须有所作为。
很庆幸的看到，中国目前以举国之力，大力发展半导体行业和相关技术，国家研究中心也提出“长波长超衍射极限光刻”等技术方案，国家对半导体技术、行业的发展和扶持，投入几乎不惜代价，相信在不久的未来，我们也有希望摘取这一工业桂冠。
回答于 2019-09-11 08:43:50
荷兰在无锡建光刻机基地，将打压中国光刻机研发公司，使起胎死腹中！
回答于 2019-09-11 08:43:50
感谢您的阅读！
第一：不否认我们光刻机技术在发展，但是和世界目前排名第一的ASML相比，确实存在不小的差异。
我们的光刻机确实并没有达到目前的7nm EUV的光刻机能力。虽然我们确实在期盼。可是，ASML的绝对优势确实目前很难被打破，因此我们虽然有信心，可是中国光刻机技术，依然还是存在一定的困难，甚至在目前为止，我们市面上发布的90nm的上海微电子的光刻机，和它相比还存在差异。
第二：荷兰ASML的优势是多种内容的结合。
我们必须要知道荷兰的阿迈斯它的优势并非是因为它技术方面能力的不断突出，而是因为多种技术的合成，或者是说多家企业共同组成了ASML这个公司。
如果你想购买荷兰ASML的光刻机，你需要做的事情，就是加入到荷兰ASML公司中，成为它的股东，它才会优先将光客机卖给你。
它这样做非常的聪明，它能够吸引一大批的厂商，包括台积电，三星，英特尔等等公司，这些公司无形中给它进行打call，成就了ASML不俗的动力。
加上多种技术都堆积在它身上，美国等国家又发布了【瓦森纳协议】来阻止我们引进它们的技术，这种情况下，我们就是“盲人摸象”，一切都在摸索。
我们并没有放弃，且不说中科院等等一些机构在耗费巨大人力，财力去研究；就说，中芯国际的1+N技术，已经在突破没有最新技术光刻机都能够带来的接近7nm工艺的技术。
因此，我们需要做的是换个思路，打破束缚。才能在光刻机领域，有所收获！
回答于 2019-09-11 08:43:50
低端的我国已经有了90纳米的，高端的，尤其是极紫外光刻机短期内我国是无法做出来的，涉及到太多的关键技术，比如德国卡尔蔡司的镜头，要求相当于篮球场，那么大面积的玻璃不能有一厘米的凸起这个人家是有上百年的积累
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