您现在的位置: 首页 > 网站导航收录 > 百科知识百科知识

matal_马塔拉尼港口

薄膜,设备,公司matal_马塔拉尼港口

发布时间：2016-12-08加入收藏来源：互联网点击：

很多朋友想了解关于matal的一些资料信息，下面是小编整理的与matal相关的内容分享给大家，一起来看看吧。

一、薄膜设备：用于沉积物质，实现晶圆表面薄膜生长

薄膜生长：采用物理或化学方法使物质附着于衬底材料表面的过程，常见生长物质包括金属、氧化物、氮化物等不同薄膜。根据工作原理不同，薄膜沉积生长设备可分为：物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积（CVD）和外延等类别。

PVD 和 CVD 是主要的薄膜设备，ALD 是产业技术发展趋势。

在半导体领域，薄膜主要分为绝缘薄膜、金属薄膜。大部分绝缘薄膜使用CVD，金属薄膜常用PVD（主要是溅射）。其他常用的镀膜方式包括ECD、SOD、MOCVD、Epitaxy等。在薄膜设备整体中，CVD的使用越来越广泛，基于CVD发展的ALD更是行业升级的技术方向。

CVD：用于沉积介质绝缘层、半导体材料、金属薄膜。

典型的 CVD 流程包括气体输入、气体对流、气象扩散、表面吸附、表面反应、表面脱附及薄膜成核生长。

（1）微米时代，化学气相沉积多采用常压化学气相沉积（APCVD）设备，结构简单。

（2）亚微米时代，低压化学气相沉积（LPCVD）成为主流，提升薄膜均匀、沟槽覆盖 填充能力。

（3）90nm 以后，等离子增强化学气相沉积（PECVD）扮演重要角色，等离子体作用下，降低反应温度，提升薄膜纯度，加强薄膜密度。

（4）45nm 以后，高介电材料（High k）和金属栅（Metal Gate），引入原子层沉积（ALD）设备，膜层达到纳米级别。——

（a）高介电材料（High k）替代SiO2，用于制备MOS器件的栅介质层，需要引入ALD。

（b）多晶硅同步地被替代为金属栅（Matal Gate）电极，也用ALD设备制备。

物理气相沉积（PVD）：利用蒸发或溅射，实现原子从源物质到沉底材料表面的物质转移，沉积形成薄膜。

物理气相沉积是一种物理气相反应生长法，沉积过程是在真空或低压气体放电条件下，涂层物质源是固态物质，经过“蒸发或溅射”后，在零件表面生成与基材能完全不同的新的固态物质涂层。PVD 具有成膜速率高、镀膜厚度及均匀可控好、薄膜致密好、粘结力强及纯净度高等优点。

PVD可以分为真空蒸镀（Vacuum Evaporator）和溅射（Sputtering）。

PVD发展初期以真空蒸镀镀膜为主，特点是工艺简单、操作容易、纯度较高，缺点是难以蒸发某些金属和氧化物。由于溅射设备制备的薄膜更加均匀、致密，对衬底附着强，纯度更高，溅射设备取代了蒸镀设备。

二、薄膜市场以 CVD、PVD 为主，国内需求空间较大‍‍‍

2020年全球半导体设备市场规模创700亿美元新高，大陆首次占比全球第一。

根据SEMI，2020年半导体设备销售额712亿美元，同比增长19%，全年销售额创历史新高。大陆设备市场在2013年之前占全球比重为10%以内，2014~2017年提升至 10~20%，2018年之后保持在20%以上，份额呈逐年上行趋势。

2020年，国内晶圆厂投建、半导体行业加大投入，大陆半导体设备市场规模首次在市场全球排首位，达到181亿美元，同比增长35.1%，占比26.2%。

2021~2022年，存储需求复苏，韩国预计将领跑全球，但大陆设备市场规模有望保持较高比重。

半导体设备行业产值具有高增长、高波动。

半导体设备行业呈现明显的周期，受下游厂商资本开支节奏变化较为明显。

根据SEMI数据，从长周期而言半导体行业复合增速约10%，半导体设备行业复合增速约13%，半导体设备行业增长弹高于半导体行业。

2020年全球薄膜设备市场达到138亿美元，占IC制造设备21%；其中主要是CVD和PVD，合计占 IC 制造设备18%。其中，CVD 市场规模高度89亿美元，主流是设备包括PECVD、Tube CVD、LPCVD 和 ALD 等。

整个薄膜市场市占率最高的是 AMAT。

高端领域如ALD受ASM、TEL和Lam等海外龙头主导。国内布局IC制造领域薄膜设备的主要国产厂商包括北方华创和沈阳拓荆。

CVD 市场主要由海外龙头主导，国内北方华创、沈阳拓荆积极布局。

根据Gartner数据，全球CVD市场前五大供应商包括AMAT（28%）、Lam Research（25%）、TEL（17%）、Kokusai（原日立高新，8%）、ASM（11%）。国内半导体设备龙头北方华创、沈阳拓荆在该领域也有布局。

从PVD市场格局来看，AMAT 一家独大，长期占据约80%的市占率。

PVD市场主要供应商包括AMAT、ULVAC、Evatec、KLA、TEL、北方华创等。

根据Gartner，2020年北方华创的半导体PVD设备全球市占率为3%，属于国内领先地位。随着国产替代加速，北方华创PVD业务有望加速成长。

我们以国内晶圆投资资本开支需求作为总数，以PVD、CVD等薄膜类设备在全球设备市场中的比例作为参考，估算国内CVD及PVD近几年的市场空间。

根据我们的估算，中国大陆CVD和PVD合计市场需求预计在200亿元以上，国产化率在10%以内，仍具有较大的替代空间。

三、国产订单导入，北方华创、沈阳拓荆逐步放量 ‍

根据招标网的数据统计，长江存储在2019~2020年采购薄膜类设备约每年200多台（主要是 CVD 和PVD），主要类别以CVD为主，其中原子层沉积70~80台。

从国产替代率而言，溅镀（PVD类）北方华创供应数量比重较高，合计达到将近20%；CVD类国产替代率较低，主要国产供应商沈阳拓荆供应占比约2~3%。

截止2021/06，北方华创一共中标长江存储共4台铝垫物理气相沉积机台和3台钽阻挡层铜种籽层物理气相沉积机台；沈阳拓荆2台氮氧化硅薄膜、3台氧化硅薄膜、3台二氧化硅薄膜，共8台PECVD类设备。截止2021/06，AMAT 中标CVD类设备约85 台，PVD类设备约20台，其他未分类20~30台。

我们以截止2021/06的华虹无锡、华力集成的公开招投标数据进行分析。华虹无锡项目累计中标薄膜机台100多台，其中国产设备13台（北方华创5台钛、氮化钛、氮化钽和铝铜类的PVD，沈阳拓荆8台PECVD）；华力集成项目累计中标薄膜机台约90多台，其中国产设备6台（北方华创2台溅射类PVD设备、沈阳拓荆4台PECVD）

四、全球龙头AMAT，产品组合丰富，装机存量优势大 ‍

AMAT是全球收入最大的半导体装备企业，全球市占率高、产品线长。应用材料（AMAT）成立于1967年，1972年上市，1992年成为全球最大的半导体设备制造商。

根据Semi和Gartner资料，公司是全球收入规模最大的半导体设备企业，产品线较长，其中在PVD领域全球市占率第一（80%+）、CVD领域全球市占率第一（28%）、刻蚀领域全球市占率第三、离子注入领域全球第一、CMP领域全球第一。

全球半导体工艺装备龙头企业，2021Q1单季度表现创新高。

2020年，AMAT的营业收入172亿美元，毛利额77亿美元，营业利润44亿美元，净利润36亿美元。

此外，公司研发费用22亿美元，研发费用率约13%。2020年，公司半导体装备业务收入114亿美元，服务收入42亿美元，显示及其他装备收入16亿美元。

2020年，公司ROE为38.5%。2021Q1，公司营业收入56亿美元，同比增长41%；净利润13亿美元，同比增长76%，单季度收入、利润均创历史新高。

 1/3    1 2 3 下一页 尾页