您现在的位置: 首页 > 网站导航收录 > 百科知识百科知识

纳米压印光刻是什么？全球范围内的该行业的发展是怎样的？

光刻,压印,技术纳米压印光刻是什么？全球范围内的该行业的发展是怎样的？

发布时间：2016-12-08加入收藏来源：互联网点击：

纳米压印光刻是什么？全球范围内的该行业的发展是怎样的？

回答于 2019-09-11 08:43:50

回答于 2019-09-11 08:43:50

可以使用压印技术制造高质量的图像传感器微透镜，其可以创建滤光器和光子带隙结构以使TV和LED更亮。使用压印技术是目前制造这些设备最经济的方法。磁盘驱动器制造商正在研究用于制作图案媒体的印记技术。小磁点可以取代当今磁记录材料的均匀层。磁盘制造商Komag最近受到EV的压力。印刷技术许可证，并希望扩大存储容量高于每盘160Gb，而EV Luesebrink认为，到2007年存储行业将使用压花来开始批量生产。

生物工业是另一个潜在的市场，Schumaker说大学正在使用压印光刻来创建一个图形表面，细胞不能在特定方向上生长或生长。早稻田大学和日本医疗器械公司正在开发一种A细胞对准装置，该装置使用压印装置快速分析液体并识别特定的靶细胞。

压印光刻技术生存能力的最佳证明是Nanonex，这是一家在新泽西州有四年历史的私营公司，已将该技术商业化。 Nanonex由普林斯顿大学的Stephen Chou教授创立，最近开始使用他自己的印记设备生产各种光学设备，包括用于改善DVD和CD上光信号的光盘。 Nanonex首席执行官Baron Weinbaum没有透露谁购买了这些产品，但声称这些产品正在运送给客户。

尽管取得了这些进步，但使用昂贵的光刻技术的半导体行业似乎不愿接受这种革命性的技术，并且投资于日益困难的向下看的光学光刻技术，光刻设备，ASML，尼康和佳能的市场领导者并未对此表示兴趣。印记技术，但有些人认为这不一定是这种情况，就像EV的Luesebrink说：“我确信光学光刻公司正致力于这项技术。”

压印光刻技术在半导体制造领域仍存在争议，可以理解的是，他们对不成熟的技术保持谨慎态度。 “没有比半导体制造商的经理更保守了，”分子印记的Schumaker说。 “他不敢拿300万美元的设施阻止它。”

飞思卡尔半导体先进光刻研究经理Bernie Roman认为，使用压印光刻技术制造高密度芯片是一项重大挑战。他补充说：“我们认为这不是最佳解决方案。” VLSI研究分析师里斯托·普哈卡（Richardo Puhakka）问及压印光刻技术在半导体行业中需要多长时间，他回答说：“从那天开始，它还有很长的路要走，也许它根本不会发生。”

为什么不能实现呢？ Puhakka说，最根本的原因是压花工具和要制造的材料需要接触。 “与硅晶片有一些接触，这是半导体行业的一个禁忌。”接触压花在30年前被广泛使用，但它逐渐变得更好。消除了光学光刻方法。

其他原因包括难以获得高质量模板以及需要其他工具来实现电路各层之间的对齐，尽管模板是最具挑战性的模板。 “没有人开始真正将模板商业化，”惠普的威廉姆斯说，他们的模板是由劳伦斯伯克利实验室制作的。这是一个“鸡蛋，鸡蛋和鸡”的问题。他说，模板的稀缺导致技术发展缓慢，模板制造商不愿在市场变大之前扩大投资。

Toppan Photomasks首席技术专家Franklin Kalk表示，他的公司生产有限的压印光刻模板，但检查缺陷的过程非常困难。 “我们不想在电子束检测工具上花费数百万美元。早期。”在真正的工业化之前，印刷光刻似乎还有很长的路要走。