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光刻机制程指的是什么？为什么会对手机芯片有如此重要影响？
光刻,芯片,纳米光刻机制程指的是什么？为什么会对手机芯片有如此重要影响？
发布时间：2019-02-08加入收藏来源：互联网点击：
光刻机制程指的是什么？为什么会对手机芯片有如此重要影响？
回答于 2019-09-11 08:43:50
回答于 2019-09-11 08:43:50
光刻机就是个“投影仪”，把我们想要的影子投影到幕布上。
芯片那么精细，是怎么生产出来的呢？用刀刻？用水冲？都不行，因为芯片太精细了，动辄几十nm的线条，日常没有什么材料能做成这么精细的刻刀。所以我们就想了一个办法，用光线来刻，这也就是光刻机。
怎么个用光刻法呢？
我们都用过胶卷相机吧，胶片平日里是黑色的，不能见光的，一旦见光就会变白，我们也找了一种一见光就“易溶解”的特殊胶片。当我们想要在芯片上刻一个圆圈的时候，我们就在芯片上涂上这种特殊胶片，拿一个圆圈光照上去，再经过一些列后续处理，我们在这个芯片上就做出了一个圆圈图形了对吧。
光刻机就是用这种胶片来刻出图形的。剩下的问题是，我们怎么把一种我们想要的特定图形打到胶片上呢？
我们见过老式投影仪吧，原理跟皮影戏是一样的，做一个“剪纸”，拿灯光一照，这个剪纸就映在幕布上了。我们也想办法在光刻机里做了这样的“剪纸”，拿光源一照，这个剪纸就映在胶片上了。
为什么对手机芯片有如此影响？
很多公司能自己设计芯片但是无法生产芯片，比如华为、iPhone、小米等，只能找代工厂生产。影响手机性能有很多，但是最重要的是手机CPU，如果手机CPU落后一代，拿性能就是比别人的旗舰级弱20%左右！所以为了市场也是为了生存，手机的芯片肯定是不能落后的。
最后HUWEI加油！翻过这座山就是希望！我是小谢，如果喜欢我的回答，欢迎关注我
回答于 2019-09-11 08:43:50
光刻仅仅是芯片制造的一道工序，叫做制程。
回答于 2019-09-11 08:43:50
芯片制造大约五个步骤，第一步，从沙子里提纯99.999999999%的晶圆，也就是硅晶片目前只有日本的信越株式会社能做到。
第二步，光刻机将设计好的芯片图纸，微缩投影到涂了光刻胶（晶圆上面涂完液态光刻胶，要利用光刻机的EUV极紫外光源，固化成薄膜）的晶圆片上，这个原理和照相机的底片成像原理相同，等于是把图纸画在了晶圆上。密度相当于把全球70亿人的名字可在一个鸡蛋壳上面，光刻机制程以nm标识，就是说每根电路线段的宽度是以nm衡量的，目前最先进的光刻机是荷兰ASML，制程在7nm以下，这是目前芯片制作高度能达到的上限。但是中国买不到这种高端光刻机。
我们说的7nm光刻机制程，指的是光刻机微缩投影的芯片图纸，线段的宽度是7nm
光刻机只是把图纸已平面的形式画在了晶圆上面，第一步，晶圆上面涂了光刻胶，此种胶抗腐蚀，整个晶圆表面全部被固化的光刻机薄膜覆盖，我们不需要的也存在了，所以。
第三步，需要用到蚀刻机按照光刻机画好的图案蚀刻掉光刻胶，露出晶圆面，同时蚀刻出一道道的凹槽。
第四步，用离子注入机在凹槽上面注入特殊离子，改变晶圆，硅晶片的属性，使凹槽变成能导电的纳米级“电线”。
第五步，沉积。
回答于 2019-09-11 08:43:50
极其微观的精细化操作，纳米级别的操作，据说可以在发丝蚀刻清明上河图，大概是这个意思。
这样就可以在同样大小的芯片上合成更多的内容，满足更多的设计需要。
华为可以自己设计，但是没有这个工匠帮忙，实现不了自己的创新，无法变成产能，也就无法变现可持续发展，很要命的一环。
回答于 2019-09-11 08:43:50
光刻是芯片制造重要流程之一。简单说，就是将图纸画在硅片上，下一步，就是用刻蚀机，按照图纸，把不需要的部分刻蚀掉，从而把晶体管在硅片上刻出来。
工艺制程的指标是纳米，表示光刻和刻蚀的精度。纳米数越低，说明就可以把硅片上的晶体管做的越小。这样，同样面积的硅片，就可以刻出更多的晶体管。从而实现更高的性能，或者更低的功耗。
目前我国国产最先进的光刻机是90纳米制程，另外28纳米的光刻机据说今年底会生产出来。而世界最先进的asml光刻机已经可以做到5纳米，领先我们几代。如果采用28纳米光刻机，通过多次反射，最多可以制造11纳米芯片。
这个制造工艺，已经可以满足华为通讯设备的所有需要。但是做最先进的手机还是不够。如果5纳米的麒麟1020芯片，用11纳米工艺来做，那芯片面积至少要变成原来的4倍，发热功耗也扩大成4倍。对于手机设备是没法接受的。
这就是为什么国产光刻机的制造工艺，对华为手机业务如此重要。
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