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我们能不能用逆向技术复制荷兰的光刻机技术?
光刻,荷兰,技术我们能不能用逆向技术复制荷兰的光刻机技术?
发布时间:2019-02-08加入收藏来源:互联网点击:
问题补充: 目前荷兰疫情加剧,俄罗斯专家建议荷兰用光刻机换中国医疗物资,如果此法能成,中国能不能用逆向复制荷兰的光刻机技术,大家怎么看?
回答于 2019-09-11 08:43:50
回答于 2019-09-11 08:43:50
技术是研究出来的。光刻机特别复杂,相关的尤其是关键核心技术只能研究出来,是复制不来的,确定无疑。
"能不能″研究出来光刻机技术?只要让逆向技术工作中的"研究″环节具有正向性,就能。否则,即使ASML给了全套的图纸,也不能得到技术,于是,即使通过逆向工程把光刻机做出来了,所含技术和所具性能却都不是原装的,并且必定都低多了,比如,镜头不如德国的、光栅不如美国的、轴承不如瑞典的……,整个光刻机的制程工艺也就仍然远远落后于ASML。
1 先逆向
技术没弄明白,自然就做不出跟ASML一样的光刻机,会出现画虎不成反类犬的结果,这样出来的从无到有的硬件没有多大的意义和价值。
不知道过去是否用逆向技术复制过光刻机,但知道直至2018年还在买,现在用的仍旧是远远落后的。
如果现在用的光刻机是用逆向技术复制过来的,就一定仅仅是做了逆向研发,从产品到设计。而之所以仍然落后,只因为设计是照猫画虎的,对技术知其然不知其所以然。
殊不知,在演绎并得出原光刻机的处理流程、组织结构、功能特性及技术规格等设计要素的数据后,重点、大头、长期的工作是确定所推导出的设计原理是不是原产品或ASML的,包括镜头、光栅、轴承的设计原理是否分别为德国的、美国的、瑞典的……,也就是要确定有没有完全掌握原光刻机的开发思路和技术方案原理,有没有未能消化的技术环节,有没有既继承了优点也继承了缺点,有没有掌握应对原有不足的技术措施,等等。
如果没有确定或者并不知道有没有这些问题,在得到了原光刻机设计要素的数据之后就制定设计方案、出图,交予制造,按说是不可以的。这已经屡屡被其它领域发生的情况所证明,得到了那些设计数据不等于掌握了技术,即便是能用的,以至于产品本身也系列化发展了,也是水平低的,总也赶不上原产品,特别是,问题频发又久久解决不了,导致用户不用或很快弃用了,实际上的结果是降低了资源的利用效率、延缓了技术拥有的进程、弱化了用户原有的信任,与引进产品的初衷、原先论证的结果相差很多,表明之前的技术方案不可行之处多,证明没有吃透的技术多,尤其整体性、匹配性的。
2 后正向
光刻机不是简单、普通的产品,堪称系统工程。
而之所以用逆向技术,不是主要因为设计和生产的必要信息得不到,而是因为引进产品之前和之后根本就做不到正向研发,没有能力采用从设计到产品的研发途径,缘于并未掌握相关的技术,包括共性、专用、支撑的技术,未掌握则是由于没有相关的技术积累。既然如此,在得到了原产品设计要素的数据之后就定方案是轻率的、盲目的。
在技术储备比较丰厚时,一般就不必采用逆向开发,即使采用了,也是局部的,只是针对未能掌握的原理、机理进行。
用逆向技术,本质上就是测绘、仿制,而这样做的目的应当只有1个,就是摸透技术,不仅消化了技术,而且吸收了,甚至还创新了。
而无论消化、吸收、再创新,都是研究,构成了一个上置于高层面、下探在深层次的硬件分析或硬件成分分析过程,更具有正向性,应当根据需要,从基础性至少应用性的研究开始,主要针对的是之前逆向获得的设计要素数据和推导获得的产品设计原理。
由此,也可知引进的好处,让正向研究具有了高度的针对性,聚焦、实用、迅速。
总而言之,如果先逆向、后正向,就至少能够制造出不仅功能一样而且性能相近的光刻机,并通过后续的研究而达到越来越接近,这主要是由于详细设计阶段完成的数据模型是精准可靠的,与原产品的技术方案高度相符,并且,将这个模型转入到研发流程后,整个产品设计研发的效率是高的、周期是短的,后续的产品更新换代和系列发展也是步步高、每每短的。
3 早布局
早就引进了光刻机,但连逆向带正向的研发绝不是某一家企业能够独立地全部承担的,当然需要进行全产业链的分工合作,就像ASML是负责集成的,光刻机的十几个系统和几万个零部件则由其它企业研发、制造。
关键是早早布局,在最初引进的同时就完成,时至今日就极大可能有可与ASML媲美的光刻机了,甚至不需要再卖顶级的了。这也就是打破了封锁,用的是并驾齐驱的产品拥有。
4 主自研
所谓主自研,就是在早布局之后,坚持以引进产品为辅、以自行研制为主,以模仿他人为辅、以自主创新为主,也就是以国外为辅、以国内为主。这是技术路线、发展战略,只要坚定不移地执行、践行,必有大成。
何况,国内工业体系健全、配套,更何况是一意致力于高科技崛起的大国,像光刻机这样的产品和技术必须自己自主地拥有。
回答完毕,感谢题主!
回答于 2019-09-11 08:43:50
逆向荷兰ASML的光刻机技术,理论是上可行的。但是,实际操作估计不可行,按照ASML的说法“把全套的图纸给了你们,也做不出来”,这个是有事实依据的。
差距在哪里?
我国的光刻机最先进的制程工艺是90nm,而荷兰ASML光刻机可以达到7nm、即将量产5nm,差距还是比较大的。
这种差距客观上反映了我国和西方在精密制造领域的差距,一台顶级光刻机的关键零部件来自不同的西方发达国家,德国的蔡司镜头、美国的光栅、瑞典的轴承等等,最麻烦的是这些关键零部件对我国是禁运的。
顶级光刻机“很难买”
早在2018年,我国的中芯国际成功预定了一台ASML的EUV极紫外光刻机,这种类型的光刻机全世界也只有ASML能够生产,产量非常有限。至今2020年了,中芯国际仍未收到这台价值1.5亿美元的光刻机,其中有很多原因。
①美国的“阻挠”
顶级光刻机对发展国家半导体行业有重要的意义。2018年年底,ASML供应商厂商发生了火灾,导致中芯国际的订单延期,后来因为许可证过期,美国拿出了《瓦森纳协议》,禁止荷兰向我国出售最新的光刻机。
②ASML的独特“合作模式”
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