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怎么研究光刻机？

驻波,光刻,精度怎么研究光刻机？

发布时间：2020-12-06加入收藏来源：互联网点击：

怎么研究光刻机？

回答于 2019-09-11 08:43:50

回答于 2019-09-11 08:43:50

这不什么“先进的东西”很多国家都有，中国也有，有的东西，你买个用就可以了！为什么还要（劳神费力的研究呢？）有那时间不如【念念佛，比什么都强！】阿弥陀佛！

回答于 2019-09-11 08:43:50

光刻机的精度难就难在，光波的波长是200纳米，而精度却要求在一纳米之高。晶片上曝光胶必须要光解均匀，为克服这个问题，光刻机不能采用传统的一次性小孔成像的照相技术，它需要先把曝光光源照射在计算好的光栅上，通过光栅得到明暗相差较大的驻波条纹，用这驻波条纹扫描底板。由于光刻胶有这样的性质，“刻蚀能量不够就不会消解”。驻波条纹可以设计成多波和驻波，每波单独能量都不够消解光刻胶，只有和驻波才可以，这样，“和驻波”的精度就是光刻机的刻蚀精度。

这是我研究的提高精度原理，恐有荒谬，感谢指教，大家都是为国出力

回答于 2019-09-11 08:43:50

谢谢！我对你说的这个机器没有接触过让你失望了！

回答于 2019-09-11 08:43:50

为行不懂。

回答于 2019-09-11 08:43:50

那是科学家们研究的课题。