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十年内中国能做出光刻机吗?
光刻,中国,纳米十年内中国能做出光刻机吗?
发布时间:2016-12-08加入收藏来源:互联网点击:
回答于 2019-09-11 08:43:50
应该不用十年,当然可能不是最高端的,但一定是国际先进的。
回答于 2019-09-11 08:43:50
EUV 是最世界上先进光刻机,采用波长 13.5nm 极紫外光,可实现 7nm 工艺 制程,荷兰ASML 为全球唯一一家能够设计和制造该类型设备的厂商。
EUV 光刻机是多方顶尖研发合作的产物,技术壁垒极高,平均每台高达 1 亿 欧元。从 1997 年 EUV LLC 组织成立集全球顶级科研阵容完成可行性理论框架, 到2010 年 ASML 推出第一台概念机 3100,再到2019 年台积电开始使用 EUV 工艺量产 7nm 芯片。前后历经 20 年以上的开发周期、汇集全球的研发团队。因此,EUV 设备技术壁垒极高,中短期国产化难度太高。
回答于 2019-09-11 08:43:50
中国光刻机60年代就有了,成熟是上海中微得90纳米,2021年会出做到7纳米到大约68纳米光刻机。
你是问能否出现在asml可以到2纳米导14纳米光刻机,3年5年内会搞出来。光刻机原理是照相机,对系统整合能力要求很高 只有大型卫星能与之比。其中所需高端光源和双工作台都有出来,中国找搞搞分卫星人才整合各个厂家很快取得突破。
上海中微是世界主要光刻机厂家之一。有家研究所走中间计划,第一次曝光有20纳米,不比asml14纳米,多次曝光到5纳米也可以。
asml整合了世界供应商,中国也要看整合能力。中国看整合能力, 主要是造宇航设备的企业,如果由设计制造卫星经验得管理项目,可能很快。
高分卫星就是照相机,光刻机也是照相机,价格都是亿级。
但有光刻机需要很多投入,积累很多经验,才能达到台积电和三星到5纳米工艺,并不容易。半导体制造是很辛苦得工作 ,要求极高。就是有台可以到7纳米光刻机,造40纳米都很难。
回答于 2019-09-11 08:43:50
现在不是有了吗?还需要十年?
回答于 2019-09-11 08:43:50
这要看国家层面的力度!如果是下定决心不怕牺牲,排除万难去争取胜利!不要十年,六七年就可以了
回答于 2019-09-11 08:43:50
中国的科技技术有什么不是被逼出来的?相信肯定用不了10年!
回答于 2019-09-11 08:43:50
中国的22纳米光刻机已经生产出来了,尽管与国外的高端光刻机有一定的差距。但是,我坚信中国先进的光刻机,通过国内广大科技工作者的不断艰辛探索和努力研发,五年之内就可以生产出性能超越荷兰阿麦斯公司极致高端光刻机。到那时,不再需要荷兰的光刻机了,受制于人的时代结束了,终究迎来了中国光刻机的大发展。
回答于 2019-09-11 08:43:50
题主这个问题并不是很严谨,我们国内现在就能够做出光刻机。只不过我们现在能够做出的光刻机与国外有比较大的差距,像上海微电子公司目前能够做出光刻机水平在90nm,而国外光刻机已经能够加工生产5nm工艺芯片,这个差距还是非常大的。
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