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以目前的投入，国产光刻机还需要多久才能追上目前国际主流？
光刻,中国,技术以目前的投入，国产光刻机还需要多久才能追上目前国际主流？
发布时间：2016-12-08加入收藏来源：互联网点击：
以目前的投入，国产光刻机还需要多久才能追上目前国际主流？
回答于 2019-09-11 08:43:50
回答于 2019-09-11 08:43:50
追不上。
其一，艾斯麦尔的光刻机本身是国际大合作的结果，中国一个国家不可能完全重建整个生产。
其二，这种高精尖产品不仅在设计上有很多独到的经验，在生产装配上也依赖于长期培养的技工，这个是我们短期内也无法具备的
但是我们也没必要追。
其一，现在3纳米已经接近物理极限，再小就拦不住电子了，所以这种技术已经基本发展到头，我们稳稳占领七纳米，然后争取攻克5纳米就可以了，真正需要突破的是在量子技术上面。真正花很大功夫和很长时间攻克光刻机，估计这个技术到时候已经淘汰了。
其二，说到底，微电子产品投入大，研发周期长，必须加入全球大协作，在这方面，我们的思路不应该是包打所有领域，而是一方面拥有自己的强项，保证在产业链中，在市场上有自己的一席之地，另一方面是尽量维护一个开放协作的全球市场。
攻克所有技术问题，既不经济也不可能，反而会拖累我们自己的后腿和造成极大浪费，最终阻碍我们的发展。
回答于 2019-09-11 08:43:50
我回答的题目是：
“一国产”比“多国产”登顶所用时间
即便长也是快
当今世界光刻机发展的主流是EUV，荷兰与其它国家共同投入技术以及资本所发展出的极紫外光刻机属全球最先进、最高端，当然是地地道道的多国产；与之相比，已经是地地道道一国产的中国光刻机则为最低端的，今年或者明年才会有28纳米的全国产中端光刻机量产，有业内人士倒是将28纳米的列为高端，而将7纳米及其以下的列为超高端。
一国产对多国产的追赶情况是怎样的？荷兰通过集成多个国的配套技术，于2015年量产EUV光刻机，最先终结了DUV光刻机制造历史，首先成为了多个国EUV制造技术的集大成者，距ASML公司成立之年1984达31年时间，距该首台主流机研发的起始年1999为16年，距制造出该主流机原型机的2010为5年。而中国最强又几乎为中国独苗的上海微电子则在2002年成立，截至2020年总共才到第18个年头，为ASML的一半，关键是18年历史的上海微电子自2007年造出90纳米光刻机样机即被断供零部件起至今，只能/只是与国内的多个企共同制造，至今已达13年，而只能/只是一国自研、自产光刻机简直就注定了所用的时间更久、久很多。上海微电子成立后的第16年即2018年开始量产90纳米一国产光刻机，而这一年，多国产EUV已经面向参与制造的多个国批量销售了！中国研发光刻机的起步并不比国外晚多少，起初的制造差距也并不大，只是由20世纪70~90年代这30年停滞在低端而致距世界顶级更远，上海微电子和其配套厂无论如何也不可能很快就把这历时许久的一大笔旧帐还完。中国光刻机已经攀登18年了，在第19年或第20年将登上中端，倒是，不能就此而简单地说一个国的DUV光刻机发展速度比那多个国快很多，更不能因此而轻易断言中国一国产EUV光刻机的发展也势必如此。
一国产也需要共用31年时间或者再过13年才能与多国产并立于世界光刻机最高峰吗？若是再过13个年头真的并立了，就比我们国家十三五规划所给出的造出EUV国产光刻机时间点——2030年——多出了3年，不过呢，还是表明我们国内顶级专家为该规划所做的论证很科学。十四五规划的“实施版”还没有推出，给出的时间点会不会变化尚不清楚，也就真的不敢说我们的一国产到底还需要多久才能与多国产并立顶峰。敢说的话是，国家已给予前所未有的重视和支持，包括投入空前之大已是事实，由向芯片产业投入3000亿或3387亿即可知；国产光刻机向顶峰攀登仍然不能凭借那多个国独有且封锁的顶尖集成技术和顶尖配套技术，照旧只有自研这 1 条路可走，纯粹的一国自研；上海微电子和其配套厂都不会再受据说曾经受过的所造国产光刻机不那么被国内青睐的影响，尽管荷兰ASML已经卖给中国现有芯片制造厂共达700多台DUV光刻机了。鉴于以上种种，估计，中国最多跟荷兰一样，自研发年算起，用16年时间由中端攀登到顶端、达到并立，也就是用时应该不会比那多个国长。
登顶时间即便长于多个国也是快的。而且是更快的，快多了，道理不言而喻，不仅仅如前所述！而中国，一旦决定集中资源在一域发力，投钱那都不是个事！给钱多多等于是给予偌大的压力！也真就屡屡保障了和促使了后发先至、后来居上奇迹的发生，并且足够快地发生了！那些已经与世界强国并跑和领跑全球的中国高端科技和中国高端制造均可证明。全世界已经造出光刻机的国家至今也没有几个，中国已经是唯一 1 个全凭自己造出光刻机的国家，关键还是真够快的！这证实了中国这一个国已经具备的现实实力和能力，包括但不局限于科技、制造、经济方面的实力和能力，不止是打破了多个国合围式、长期性的封锁，不止让“光刻机落后是中国半导体领域最为严重的问题”的说法根本站不住脚，不错，不过是即将登临中端而已，然而，不是有不少人说造光刻机的难度高过造原子弹、造航空发动机吗；重要的是，还表明中国这一个国已经实实在在地具有了必将越积越实、越高的潜在实力和能力，预示着未来完全可以跟那多个国的过去一样造出高端和顶级的光刻机，很可能更快，即使慢于多个国也慢不到哪去！
回答于 2019-09-11 08:43:50
技术不是问题，这是容量很小的市场，全世界的消费也只能养活一两家光刻机生产商，后来者因为没有什么技术积累，天然处于劣势，所以从商业角度来看，没有介入的价值。因为就算用几年的时间，投入一笔不菲的资金，把荷兰公司的生意全抢了，一年也没多少利润。这不是一个好的投资选项。
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